Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9408602 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9408602
Wafergröße: 8"
CVD System, 8" (3) Chambers PE-SiO2.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein High-End-PECVD-Reaktor, der für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Das Gerät nutzt eine äußerst zuverlässige, kompakte und modulare Architektur, um eine optimale Systemleistung zu erzielen. AMAT P-5000 verfügt über eine SiH2Cl2 CVD-Prozesskammer mit Atmosphärendruck und einem erweiterten Duschkopf, um die Gleichmäßigkeit über die gesamte Waferoberfläche zu gewährleisten und eine höhere Präzision, Wiederholbarkeit und Durchsatz anzutreiben. In die Prozesskammer integrierte dual gepulste Plasmaquellen sorgen für eine schnelle Waferoberflächenaktivierung und eine modulare Architektur sowie robuste Hardwarekomponenten für langfristige Kompatibilität und Zuverlässigkeit. Die automatisierte Wafer-Lade-, Handhabungs- und Roboterarmeinheit von APPLIED MATERIALS P 5000 bietet eine außergewöhnlich niedrige Zykluszeit bei höchster Präzision und Wiederholbarkeit. Es hat die Fähigkeit, alle Arten von Substraten wie Silizium, Nitrid und Aluminium zu verarbeiten, so dass die Anwendung Flexibilität und Anpassungsfähigkeit an verschiedene Prozessanforderungen. Die Maschine integriert fortschrittliche Analysewerkzeuge wie DVD und SEM-Analyse sowie Rezeptautomatisierung und Simulationstechnologie, um die Prozessverbesserung voranzutreiben. P 5000 unterstützt auch die vollständige Integration in bestehende Fertigungsumgebungen für eine effiziente Steuerung und Datenübertragung. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 wurde entwickelt, um überlegene Leistung und Ausbeute in der Halbleiterverarbeitung zu bieten. Es bietet hohe Zuverlässigkeit, Gleichmäßigkeit und Präzision sowie außergewöhnlichen Durchsatz und Steuerbarkeit, so dass es eine bevorzugte Wahl für fortgeschrittene Halbleiterbauelementherstellung ist.
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