Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9132652 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der speziell für die Forschung und Produktion von erweiterten Speicher- und Logikgeräten entwickelt wurde. Der Reaktor verfügt über eine Quarzkammer mit einem robusten Design für konventionelle und Plasma verbesserte CVD (PECVD) -Fähigkeit. Druck und Temperatur innerhalb des Reaktors werden für eine optimale Verarbeitungsumgebung präzise gesteuert. Die Ausrüstung ist auch mit Stickstoffspülgasfähigkeit für erweiterte Prozesseinblicke ausgestattet. AMAT P5000W verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine Echtzeit-Anzeige von Reaktionsraumdruck- und Temperaturdaten ermöglicht. APPLIED MATERIALS P5000W bietet auch erweiterte Funktionen wie automatische Betriebsmesstechnik, so dass Benutzer eine Vielzahl von Routine-Systemkontrollen mit minimalem Aufwand durchführen können. Dies ermöglicht auch eine genaue Prozessreproduzierbarkeit und Wiederholbarkeit. Innerhalb des fortgeschrittenen CVD-Reaktors gibt es einen In-situ-Detektor für das reaktive Artenmonitoring sowie In-situ-Temperatur- und Druckmessungen mit 0,1%, 0,2%, 0,3% und 0,5% Genauigkeitsmessungen. Das Gerät verfügt auch über eine Vielzahl von erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen, einschließlich Mehrdruckfähigkeit und automatisierte Sollwertanpassungen. Das große Kammerdesign von P5000W ermöglicht hohe Durchsätze aufgrund der extrem niedrigen Filmwachstumsraten, die erreicht werden können. Bei schnellen thermischen Zyklen können die Durchsätze von AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W mehr als 1000 Wafer pro Stunde erreichen. Die große Kammerkapazität ermöglicht auch die Abläufe großer Scheiben und nicht konventioneller Substrate, wie SOI oder Saphir. Der Reaktor wird für viele Speicher- und Logikgeräte-Anwendungen wie Kupferleiterbahnen, Wolfram-Steckschichten, Kontaktrückschnitt sowie Oxid- und Nitrid-Passivierungsschichten verwendet. Es kann für Kupferverbindungs- oder Wolframsteckschichtprozesse verwendet werden, mit extrem präziser Temperatur-, Druck- und Prozessparameterregelung, die auf ein Niveau von < 1% erreichbar ist. Es kann auch eine Vielzahl von nicht-konventionellen CVD-Verfahren durchführen, einschließlich Oxid- und Nitrid-Passivierungsschichten, Kontaktrückschnitt und berührungslose Abscheidung von Gräben mit hohem Seitenverhältnis. Schließlich wurde der Reaktor für einfache Wartung und Reinigung konzipiert. Die Kammer und die Komponenten sind leicht zugänglich, und die notwendigen Werkzeuge werden üblicherweise mit der Maschine geliefert. Auch die direkte Integration mit anderen Prozesswerkzeugen ist über erweiterte digitale Kommunikationsmöglichkeiten verfügbar und bietet eine nahtlose Werkzeugsteuerung mit maximaler Prozessoptimierung.