Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9254064 zu verkaufen

ID: 9254064
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1996
Systems, 6" (3) Chambers Wafer loading type Processing type: W-Plug Exhaust: Main system: NW 50 Gas line: Unit / Maker / Model Chamber A: MFC1 / STEC / SEC-4400 MFC2 / STEC / SEC-4400 MFC3 / UNIT / UFC-8160 MFC4 / UNIT / UFC-1660 MFC5 / STEC / SEC-4400 MFC6 / UNIT / UFC-1661 MFC7 / UNIT / UFC-1660 MFC8 / UNIT / UFC-1660 Chamber B: MFC1 / STEC / SEC-4400 MFC2 / STEC / SEC-4400 MFC3 / UNIT / UFC-1660 MFC4 / UNIT / UFC-1660 MFC5 / STEC / SEC-4400 MFC6 / UNIT / UFC-1100 MFC7 / UNIT / UFC-1260A MFC8 / UNIT / UFC-1660 Chamber D: MFC1 / STEC / SEC-7440 MFC2 / STEC / SEC-4400 MFC3 / UNIT / UFC-1660 MFC4 / STC / UFC-1660 MFC5 / STC / SEC-4400 MFC6 / UNIT / UFC-1660 MFC7 / UNIT / UFC-1660 MFC8 / UNIT / UFC-1660 OEM No marking transfer Gauge: Chamber / Maker / Model Chamber A / MKS / 627A Chamber B / MKS / 127AA Chamber D / MKS / 624A RF Unit: Chamber / Maker / Model / Unit Chamber A, B and D / ENI / OEM-12B / Generator Chamber A / B / D / OEM / 0010-09750R / Matcher Sub module: Maker / Model / Unit (3) EDWARDS / QDP40 / Dry pumps EBARA / A30W / Dry pump AMAT / APPLIED MATERIALS / AMAT0 / Heat exchanger (2) UNISEM / UN2004A-HW / Scrubbers Power supply: 208 VAC, 3 Phases, 50/60 Hz 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W Reaktor, auch bekannt als ein Flughafen metalorganische chemische Dampfabscheidung Ausrüstung, ist ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für fortgeschrittene Halbleiterprozesse in einer Charge oder Cluster-Toolset entwickelt. Es wird verwendet, um ultradünne Materialschichten auf Siliziumscheiben abzuscheiden, um komplexe Strukturen zu fertigen, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden. AMAT P5000W ist ein hocheffizientes Gerät, das überlegene Prozesswiederholbarkeit und Zuverlässigkeit bietet. APPLIKATIONSMATERIALIEN P5000W verfügt über eine automatisierte einstufige Verriegelung, mit der die Wafer direkt in die Reaktionskammer eingelegt werden können. Dadurch entfallen Wafer-Transfers und die Prozesszykluszeit wird beschleunigt. Das Kammervolumen beträgt etwa 70 Liter und der Betriebstemperaturbereich liegt zwischen - 5˚C und +450˚C. Das vielseitige Design ermöglicht die Verwendung des Systems für verschiedene Prozesse einschließlich ein- und mehrschichtiger Abscheidung von Folienstrukturen. P5000W wurde mit einem PC-Basisroboter und einer vollständigen Prozesssteuerungsumgebung entwickelt. Es ist mit einer einzigartigen Echtzeit-Feedback-Einheit ausgestattet, die die Ergebnisse des Prozesses überwacht. Darüber hinaus ist AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W für den Tieftemperaturbetrieb optimiert und somit ideal für komplexe Prozessrezepte geeignet. Die fortschrittliche Steuerungsmaschine bietet volle statistische Prozesssteuerung, schnelle Diagnose, optimale Abstimmung und präzise forschungschemische Steuerungsfunktionen. AMAT P5000W verfügt über eine Turbo Source-Technologie, die eine genaue Abscheidung von Schichten mit unterschiedlichen Dicken ermöglicht. Hierdurch können extrem gleichmäßige Folien abgeschieden werden, was zu einer verbesserten Querschnittsgleichmäßigkeit und Strukturreproduzierbarkeit führt. APPLIED MATERIALS P5000W verfügt auch über eine Dreifach-Substrat-Kalibrierstation, die genaue und wiederholbare Substratdicken ermöglicht. P5000W Reaktor ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für fortschrittliche Halbleiterabscheidungsprozesse. Das Leistungsspektrum umfasst automatisierte einstufige Lastschlösser, PC-Basisroboter und Prozesssteuerungsumgebung, Turbo Source-Technologie und Dreifach-Substrat-Kalibrierstation und bietet ihm überlegene Prozesswiederholbarkeit und Zuverlässigkeit für optimale Gesamtbetriebskosten.
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