Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9254064 zu verkaufen
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ID: 9254064
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1996
Systems, 6"
(3) Chambers
Wafer loading type
Processing type: W-Plug
Exhaust:
Main system: NW 50
Gas line:
Unit / Maker / Model
Chamber A:
MFC1 / STEC / SEC-4400
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-8160
MFC4 / UNIT / UFC-1660
MFC5 / STEC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1661
MFC7 / UNIT / UFC-1660
MFC8 / UNIT / UFC-1660
Chamber B:
MFC1 / STEC / SEC-4400
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-1660
MFC4 / UNIT / UFC-1660
MFC5 / STEC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1100
MFC7 / UNIT / UFC-1260A
MFC8 / UNIT / UFC-1660
Chamber D:
MFC1 / STEC / SEC-7440
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-1660
MFC4 / STC / UFC-1660
MFC5 / STC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1660
MFC7 / UNIT / UFC-1660
MFC8 / UNIT / UFC-1660
OEM No marking transfer
Gauge:
Chamber / Maker / Model
Chamber A / MKS / 627A
Chamber B / MKS / 127AA
Chamber D / MKS / 624A
RF Unit:
Chamber / Maker / Model / Unit
Chamber A, B and D / ENI / OEM-12B / Generator
Chamber A / B / D / OEM / 0010-09750R / Matcher
Sub module:
Maker / Model / Unit
(3) EDWARDS / QDP40 / Dry pumps
EBARA / A30W / Dry pump
AMAT / APPLIED MATERIALS / AMAT0 / Heat exchanger
(2) UNISEM / UN2004A-HW / Scrubbers
Power supply: 208 VAC, 3 Phases, 50/60 Hz
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W Reaktor, auch bekannt als ein Flughafen metalorganische chemische Dampfabscheidung Ausrüstung, ist ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für fortgeschrittene Halbleiterprozesse in einer Charge oder Cluster-Toolset entwickelt. Es wird verwendet, um ultradünne Materialschichten auf Siliziumscheiben abzuscheiden, um komplexe Strukturen zu fertigen, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden. AMAT P5000W ist ein hocheffizientes Gerät, das überlegene Prozesswiederholbarkeit und Zuverlässigkeit bietet. APPLIKATIONSMATERIALIEN P5000W verfügt über eine automatisierte einstufige Verriegelung, mit der die Wafer direkt in die Reaktionskammer eingelegt werden können. Dadurch entfallen Wafer-Transfers und die Prozesszykluszeit wird beschleunigt. Das Kammervolumen beträgt etwa 70 Liter und der Betriebstemperaturbereich liegt zwischen - 5˚C und +450˚C. Das vielseitige Design ermöglicht die Verwendung des Systems für verschiedene Prozesse einschließlich ein- und mehrschichtiger Abscheidung von Folienstrukturen. P5000W wurde mit einem PC-Basisroboter und einer vollständigen Prozesssteuerungsumgebung entwickelt. Es ist mit einer einzigartigen Echtzeit-Feedback-Einheit ausgestattet, die die Ergebnisse des Prozesses überwacht. Darüber hinaus ist AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W für den Tieftemperaturbetrieb optimiert und somit ideal für komplexe Prozessrezepte geeignet. Die fortschrittliche Steuerungsmaschine bietet volle statistische Prozesssteuerung, schnelle Diagnose, optimale Abstimmung und präzise forschungschemische Steuerungsfunktionen. AMAT P5000W verfügt über eine Turbo Source-Technologie, die eine genaue Abscheidung von Schichten mit unterschiedlichen Dicken ermöglicht. Hierdurch können extrem gleichmäßige Folien abgeschieden werden, was zu einer verbesserten Querschnittsgleichmäßigkeit und Strukturreproduzierbarkeit führt. APPLIED MATERIALS P5000W verfügt auch über eine Dreifach-Substrat-Kalibrierstation, die genaue und wiederholbare Substratdicken ermöglicht. P5000W Reaktor ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für fortschrittliche Halbleiterabscheidungsprozesse. Das Leistungsspektrum umfasst automatisierte einstufige Lastschlösser, PC-Basisroboter und Prozesssteuerungsumgebung, Turbo Source-Technologie und Dreifach-Substrat-Kalibrierstation und bietet ihm überlegene Prozesswiederholbarkeit und Zuverlässigkeit für optimale Gesamtbetriebskosten.
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