Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PRODUCER EXT #9219513 zu verkaufen

ID: 9219513
Wafergröße: 12"
Etcher, 12" Chamber model: Producer Bias gen: AE APEX 5513, 13.56 MHz, max 5000W Bias match: AE Source gen: AE OVATION 2760, 60MHz, max 2700W Source match: AE GDP Size: Y2O3, 14" Turbo pump: EDWARDS STP-F2203C Throttle valve: VAT pendulum valve DN-250 FRC: MKS FRCA-26349, 1000 / 1000 1/4 VCR ESC: Dual zone ceramic ESC Cathode chillers: ChA: SMC INR-496-003D ChB: SMC INR-496-003D ChC: SMC INR-496-003D Wall Chillers: ChA: SMC INR-496-003D ChB: SMC INR-496-003D ChC: SMC INR-496-003D Process kit coating: Y203 Cooling: HT 110 / 135 / FC 3283 Mainframe configuration: IPUP Type: TOYOTAl 100L Gas panel type: Next gen VHP Robot: Dual blade MF PC Type: CPCI Factory interface configuration: Frontend PC type: 306M Server FIC PC Type: 306M Server (3) Load ports Atmospheric robot: YASKAWA Track robot Side Storage: Left Dry pumps & Scrubbers: ChA: EDWARDS iH ChB: EDWARDS iH Chc: EDWARDS iH MFC Configuration: UNIT PTI-125 MFC Configuration: UNIT PTI-125 EC2-61A / Gas name / Max flow / MFC Type Gas 1 / C4F6 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 2 / CHF3 / 400 / UNIT PTI-125 Gas 3 / CH2F2 / 100 / UNIT PTI-125 Gas 4 / CH2F2 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 5 / C4F8 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 6 / N2 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 7 / O2 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 8 / O2 / 2000 / UNIT PTI-125 Gas 9 / SF6 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 10 / CF4 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 11 / CF4 / 500 / UNIT PTI-125 Gas 12 / AR / 2000 / UNIT PTI-125 EC2-61B / Gas name / Max flow / MFC Type Gas 1 / C4F6 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 2 / CHF3 / 400 / UNIT PTI-125 Gas 3 / CH2F2 / 100 / UNIT PTI-125 Gas 4 / CH2F2 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 5 / C4F8 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 6 / N2 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 7 / O2 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 8 / O2 / 2000 / UNIT PTI-125 Gas 9 / SF6 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 10 / CF4 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 11 / CF4 / 500 / UNIT PTI-125 Gas 12 / AR / 2000 / UNIT PTI-125 EC2-061C / Gas name / Max flow / MFC Type Gas 1 / C4F6 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 2 / CHF3 / 400 / UNIT PTI-125 Gas 3 / CH2F2 / 100 / UNIT PTI-125 Gas 4 / CH2F2 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 5 / C4F8 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 6 / N2 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 7 / O2 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 8 / O2 / 2000 / UNIT PTI-125 Gas 9 / SF6 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 10 / CF4 / 200 / UNIT PTI-125 Gas 11 / CF4 / 500 / UNIT PTI-125 Gas 12 / AR / 2000 / UNIT PTI-125.
AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER EXT ist ein Reaktor für Halbleiterherstellungsprozesse, speziell zur Dotierung von Siliziumwafern mit Borgas. Der Reaktor soll eine komplette Borimplantatlösung für die Herstellung von CMOS (CMOS) -Chips liefern. AMAT PRODUCER EXT ist die neueste Version der PRODUCER-Serie und wurde entwickelt, um eine kostengünstigere Alternative zu den einzelnen Waferreaktorsystemen zu bieten. ANWENDUNGSMATERIALIEN HERSTELLER EXT Reaktor ist ein einzelner Wafer, vertikale Diffusionsöfen optimiert für die Herstellung von Bordotierungsprofilen. Es wurde entwickelt, um Dotierstoffkonzentrationen zu erzeugen, die bis zu 10x höher als die vorherigen einzelnen Wafersysteme sind, und um unterschiedliche Implantatwinkel zu ermöglichen, um ultrafeine Linienmerkmale zu erzeugen. Der Reaktor ist zudem sehr zuverlässig und energieeffizient ausgelegt. PRODUCER EXT nutzt eine fortschrittliche Plasmaquelle, um Bor-Dotierungsgas zu erzeugen. Dieses Plasma erzeugt mit kapazitiv gekoppelter HF-Energie das Borgas, das dann in einem Strahlleitungsofen dem Wafer zugeführt wird. Dies ermöglicht eine präzise Dosierung des Bors in gewünschten Tiefen auf dem Wafer mit weniger Abfall und höherer Produktivität. AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER EXT enthält einen hochauflösenden Substrat Viewer, mit dem Benutzer das Implantat-Spotprofil überwachen und die Platzierungsgenauigkeit überprüfen können. Der Anwender kann die Tiefe des Implantats mit der integrierten Prozesssteuerungssoftware steuern. Dadurch wird sichergestellt, daß auf jedem Wafer das gewünschte Dotierstoffkonzentrationsprofil erreicht wird. AMAT PRODUCER EXT ist mit modularen Komponenten ausgelegt, die einfach zu installieren und zu warten sind. Dies macht es einfach, die Produktion zu skalieren und das System für verschiedene Implantatprofile neu zu konfigurieren. Darüber hinaus ermöglicht die geringe Größe von APPLIED MATERIALS PRODUCER EXT die Installation in einer Vielzahl von Anlagen, von Labors bis hin zu Serienfabriken. Der Produzent EXT Reaktor ist eine ideale Lösung für Halbleiterherstellungsprozesse und bietet eine zuverlässige und kostengünstige Lösung zur Erzeugung von Borimplantatprofilen. Es wurde entwickelt, um hochpräzise Dosierfähigkeiten und hohe Erträge bei minimalem Abfall und ausgezeichneter Energieeffizienz zu bieten. Es kann in einer Vielzahl von Anlagentypen und -größen installiert werden und ist sehr konfigurierbar.
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