Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT SiCoNi #9375200 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Hersteller GT SiCoNi ist eine fortschrittliche, hocheffiziente chemische Dampfabscheidungskammer (CVD), die für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Dieser Reaktor verwendet eine patentierte poröse SiCoNi (Siliziumcarbid Nickel) -Beschichtung auf den Bearbeitungsflächen der CVD-Kammer für verbesserte Gleichmäßigkeit, erhöhten Durchsatz und reduzierte CMP-Belastung. Die patentierte SiCoNi-Beschichtung bietet eine einzigartige Kombination aus chemischen, thermischen und mechanischen Eigenschaften. Es hat eine ausgezeichnete Abscheidungsgleichförmigkeit, die eine präzise Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit ermöglicht. Seine thermische Stabilität ermöglicht auch eine verbesserte CVD-Prozessstabilität. Die Kombination aus hoher thermischer und chemischer Beständigkeit sorgt auch für eine verbesserte CMP-Belastung während der Reinigung. AMAT Producer GT SiCoNi CVD-Kammer ist mit hochtemperaturgepulsten CMP-Ladefähigkeit ausgestattet, die eine überlegene CMP-Beladung und Qualitätskontrolle während des Reinigungsprozesses ermöglicht. Es verfügt außerdem über ein strömungsarmes Hochleistungs- Cooljet™ Reinigungssystem, das Verunreinigungen schnell aus der Kammer entfernt und die Integrität der Kammer aufrechterhält. ANWENDUNGSMATERIALIEN Hersteller GT SiCoNi ist mit mehreren Prozessgasen ausgestattet, einschließlich Stickstoff und Sauerstoff, um eine optimale Prozessverträglichkeit zu gewährleisten. Es verfügt über einen Low-EnergySi-basierten Injektor, der niedrigere Ätztemperaturen und eine verbesserte Prozesskontrolle und -stabilität ermöglicht. Um die Stabilität und Wiederholbarkeit von Prozessparametern zu erhöhen, verfügt der Reaktor auch über eine Zweizonen-Warmwandkonstruktion für eine einheitliche Temperaturregelung. Hersteller GT SiCoNi ist in der Lage, Wafer bis zu 200mm Größe mit einem vollautomatischen Lastschloss für bequemes Be- und Entladen von Wafern zu verarbeiten. Sein fortschrittliches Temperaturregelsystem sorgt für zuverlässige Prozessstabilität bei langen Produktionsläufen und ermöglicht auch einen einfachen Prozessaufbau. Darüber hinaus ist der Reaktor so konzipiert, dass er die strengsten Sicherheitsstandards erfüllt und maximale Sicherheit in einer industriellen Umgebung gewährleistet. AMAT/APPLIED MATERIALS Hersteller GT SiCoNi ist eine vielseitige CVD-Kammer, die den hohen Qualitäts- und Leistungserwartungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Seine fortschrittlichen Prozessfähigkeiten, gepaart mit der fortschrittlichen SiCoNi-Beschichtung, bieten überlegene Prozesskontrolle und Einheitlichkeit. Seine Vielseitigkeit und Leistung machen es zu einer idealen Lösung für die anspruchsvollsten Halbleiterprozesse.