Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT3 #293610775 zu verkaufen

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ID: 293610775
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2015
PECVD System, 12" Process: TEOS (4) SELOP Load ports FOUP: (25) Wafers FX Robot 0200-08346 Robot blades 0090-04659 Load lock preheater 9992-00594 Slit valve door EBARA ESR 80WN MF Pump Laod lock pump: EPX 180 Twin dry vacuum pump (P/N: 3620-00517) 0190-37371 Diffuser KASHIYAMA SDE1203B Process pump Chamber: Type: PE Silane 0920-00139 RF Generator 0190-08677 RF Generator 0010-36734 Heater 9992-00594 Slit valve 0010-42371 RF Filter 0190-32100 Foreline TV 3870-06775 Foreline ISO 0040-53688 Gas box 0040-95475 Faceplate 0021-26544 Blocker (2) Pumping liner sides (P/N: 0200-02407; 0200-02408) 0200-06758 Liner ceramic top 0200-02973 Liner ceramic middle 0200-02974 Liner ceramic bottom 0021-27290 Ceramic isolator 0200-03314 Lift pins 0200-03312 Lift hoop (2) Sapcer sides (P/N: 0021-24181; 0021-24182) 0190-40602 RPS Gas box: Line / Gas / Size 3 / TEOS-1 / 7000 4 / TEOS-2 / 7000 6 / NF3 / 5000 8 / Ar / 10000 9 / He-TEOS / 15000 12 / O2 / 15000 18 / Purge02 / - 19 / Purge03 / - Liquid line temperature: TEOS-1, 2 Injection: 150° Heated line-2, 3, 4, 5, 6, 7: 120° Does not include Hard Disk Drive (HDD) Power supply: 208 VAC, 3-Phase 2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT3 ist ein fortschrittlicher thermischer chemischer Dampfabscheidungsreaktor, der gut ausgestattet ist, um Benutzern zu helfen, ihre Substratabscheidungsanforderungen zu erfüllen. Diese hochmoderne Abscheidevorrichtung ist in der Lage, hochwertige Folien aus vielen Materialien herzustellen, darunter einkristallines Silizium, Germanium, Kohlenstoff und Diamant. Es verfügt über eine präzise Prozesssteuerung, eine Vielzahl von thermischen Prozessen und eine enge Einheitlichkeitskontrolle. AMAT Producer GT3 ist mit einer Prozeßkammer mit einem Durchmesser von 10 cm und einer Höhe von 20 cm konzipiert, wodurch es sehr anpassbar und perfekt für eine Vielzahl von Anwendungen ist. Eine effiziente Thermotransferausrüstung hilft, eine konsistente Substrattemperatur aufrechtzuerhalten, die bei der Erzielung einer qualitativ hochwertigen Filmabscheidung von entscheidender Bedeutung ist. Dieser Reaktor bietet auch eine Reihe von vorprogrammierbaren Prozessen, so dass Benutzer ihre Filmabscheidung für eine ultimative Kontrolle verfeinern können. Um zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten, verfügt der GT3 über ein Rapid Thermal Anneal-System innerhalb der Substratebene, um unerwünschte Spannungen zwischen Materialschichten zu minimieren. Diese Reaktoreinheit ist auch mit AMAT patentierter Arc Control Technology ausgestattet, die bei noch niedrigeren Temperaturen als typische CVD-Prozesse überlegene Ablagerungen erzielen soll. Abgesehen von der Verwendung für fortgeschrittene Substratabscheidung, ist APPLIED MATERIALS Producer GT3 entworfen, um eine breite Palette von Materialien unterzubringen, einschließlich III-V-Materialien für die Entwicklung von Leistungshalbleiterbauelementen. Die Maschine verfügt auch über modernste Steuerungen für die Elektrodenvorspannung, was für die Entwicklung von Hochleistungsmaterialien entscheidend ist. Die im GT3 vorhandene Breite Ionenquelle ermöglicht die gleichzeitige Abscheidung zweier unterschiedlicher Materialien. Dies ist insbesondere bei der Herstellung elektrischer Geräte nützlich, bei denen die Kombination zweier Materialien zu überlegenen Ergebnissen führen kann. Darüber hinaus ist der Reaktor mit einem Heizleiter-Winkel-Gleichrichtergetriebe ausgestattet, mit dem Benutzer die Heizimpedanz des Substrats präzise manipulieren können. Hersteller GT3 ist ein fortschrittlicher chemischer Dampfabscheidungsreaktor, der zuverlässige Leistung und zahlreiche anpassbare Fähigkeiten bietet. Mit seinem breiten Spektrum an thermischen Prozessen, fortschrittlichen Elektroden und einer engen Gleichmäßigkeitskontrolle ist der GT3 eine ideale Wahl für diejenigen, die eine qualitativ hochwertige Filmabscheidung suchen.
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