Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT3 #293610776 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT3 ist ein führender PECVD-Reaktor (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition). Es ist weit verbreitet in der Halbleiterindustrie für die Abscheidung von dielektrischen und Metallschichten auf Siliziumscheiben verwendet. Es wird auch für andere Anwendungen wie Solar PV, medizinische Geräte und anspruchsvolle Elektronik eingesetzt. AMAT Producer GT3 ist ein effizientes und vielseitiges Werkzeug. Es ist modular aufgebaut mit zwei Kammern, einer Quellkammer und einer Reaktionskammer. Diese Anordnung trennt Vorgas und Plasmabearbeitung vom Abscheidungsprozess. Der Reaktor ist in der Lage, sowohl Niederdruck- als auch Atmosphärendruck-Prozeßchemie zu erzeugen, was eine Vielzahl von Abscheidungsgeschwindigkeiten und Plasmabedingungen ermöglicht. Es ist konform mit Temperatur-, Druck- und Gasflussüberwachung konzipiert, um eine präzise Kontrolle und konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. ANWENDUNGSMATERIALIEN Hersteller GT3 ist mit einem hochdichten Magnetron und einer dielektrischen Kühlplasmaquelle ausgestattet. Dieses fortschrittliche Design bietet eine verbesserte Gleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit und Abscheidungsqualität. Darüber hinaus gibt es dem Reaktor die Fähigkeit, große Substratgrößen zu handhaben. Die Hochtemperatur-Keramik-Auskleidung und die oben montierten Heizungen produzieren hochwertige Nitride und Oxide, was es zu einer guten Wahl für tiefe UV- und High-Q-dielektrische Systeme macht. Es bietet auch eine saubere Betriebsumgebung für empfindliche Metalle und andere Elektronikarchitekturen. Der Hersteller GT3 ist in der Lage, mehrere Abscheideprozesse durchzuführen. Es wird für eine breite Palette von Verfahren eingesetzt, einschließlich Metallisierung, CVD, PVD (Physical Vapor Deposition), ALD (Atomic Layer Deposition) und MOCVD (Metalorganic Chemical Vapor Deposition). Der Reaktor ist in der Lage, Filmdicken im Bereich von 10 nm bis über 5 Mikron zu erreichen, so dass es eine gute Wahl für fortgeschrittene Geräteherstellung. AMAT/APPLIED MATERIALS Hersteller GT3 ist auch in der Lage, eine breite Palette von thermischen Prozessen durchzuführen, einschließlich schnelles thermisches Glühen und schnelle thermische Verarbeitung. Es ist ideal zum Glühen von Photoresists, um den Durchsatz und die Prozesssicherheit zu verbessern. Darüber hinaus gewährleistet sein hohes Temperaturvermögen einen guten Waferkontakt und ein homogenes Filmwachstum. Abschließend ist AMAT Producer GT3 PECVD Reaktor ein leistungsfähiges und vielseitiges Werkzeug. Es hat eine breite Palette von Anwendungen, einschließlich der Abscheidung von dielektrischen und Metallschichten sowie mehrere andere fortschrittliche Verfahren. Es ist ein effizientes Werkzeug, das präzise Kontrolle und konsistente Ergebnisse liefert. Es ist eine gute Wahl für die Herstellung von fortschrittlichen elektronischen Geräten.