Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #149570 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 149570
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2002
CVD system, 12"
Process: BPSG
Wafer shape: SNNF
Chamber A: SACVD-TWIN
Chamber B: SACVD-TWIN
Line voltage: 200 / 208 VAC
Line frequency: 60 Hz
Phase: 3 phase
AC P/N: 0180-01905
EMO switch type: turn to release EMO
Smoke detector: no
Chamber A: BPSG
Controllers:
Chamber set interface: yes
SPX MUXADIO110: yes
Chamber set power supply: yes
Chamber set interconnect assembly: yes
GP SPX MUXADIO110: yes
GP interface BD: yes
Other controller:
WATLOW temperature controller: yes
Heater RF filter: yes
EV manifold: yes
Thermocouple: yes
5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes
Heater lift assembly:
Heater base: yes
Lead screw assembly: yes
Motor: yes
Heater lift bellows: yes
Lift pin assembly:
Lift pin assembly: yes
Lift ceramic ring: yes
Lift pin bellows: yes
Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS
Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes
Fore line assembly:
Throttle valve: yes
Isolation valve: yes
Pirani gauge: yes
Heating jackets: yes
RGA port NW25: yes
Fore lines: yes
Pressure gauge:
MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes
MKS 627A-12338, 20 torr: yes
MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes
Chamber B: BPSG
Controllers:
Chamber set interface: yes
SPX MUXADIO110: yes
Chamber set power supply: yes
Chamber set interconnect assembly: yes
GP SPX MUXADIO110: yes
GP interface BD: yes
Other controller:
WATLOW temperature controller: yes
Heater RF filter: yes
EV manifold: yes
Thermocouple: yes
5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes
Heater lift assembly:
Heater base: yes
Lead screw assembly: yes
Motor: yes
Heater lift bellows: yes
Lift pin assembly:
Lift pin assembly: yes
Lift ceramic ring: yes
Lift pin bellows: yes
Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS
Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes
Fore line assembly:
Isolation valve: yes
RGA port NW25: yes
Pressure gauge:
MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes
MKS 627A-12338, 20 torr: yes
MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes
Gas panel and pallet:
Mainframe type: Producer III 12"
Gas feed (top): yes
System cabinet exhaust (top): yes
MFC: Celerity UFC 8160 metal digital MFC's: yes
LFM:
STEC HORIBA LF-A410A-EVD 7.0: yes
STEC HORIBA LF-A410A-EVD 1.5: yes
STEC HORIBA LF-A310A-EVD 0.5: yes
Injection valve: STEC HORIBA: yes
Valve: FUJIKIN 5 RA max: yes
Filter:
MILLIPORE 5 RA: yes
MYCROLIS O3 GS line: yes
SLD (single line drop): no
SLD valve type: FUJIKIN diaphragm: yes
Veriflo 10 RA regulator: yes
MKS LDMB12PA2CC1 transducer with display: yes
Smoke detector photohelic: yes
Generic facilities / scrubber interface: yes
Facilities interlock indicator: no
Interface output (fault): yes
Display gas pallet: yes
Chamber A gas pallet: SA-BPSG
Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD
Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD
Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD
1: O3
2: O2, 30 slm
3: N2 purge
4: NF3, 5 slm
5: N2, 3 slm
6: AR, 10 slm
7:
8: N2, 30 slm
9: HE, 30 slm
10: N2 purge
Chamber B gas pallet: SA-BPSG
Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD
Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD
Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD
1: O3
2: O2, 30 slm
3: N2 purge
4: NF3, 5 slm
5: N2, 3 slm
6: AR, 10 slm
7:
8: N2, 30 slm
9: HE, 30 slm
10: N2 purge
System placement: stand alone
EV mainfold: yes
System controller:
Facilities UPS interface: yes
MF controllers:
Chamber set interface: yes
SPX MUXADIO110: yes
Maintenance switch: yes
MF DC power supply assembly: yes
VME rack:
1: SBC
15: serial / video
16, 17: HDD
19, 20: FDD
DVD: yes
FDD: yes
Load locks:
Load lock lift assembly:
Motor
Lead screw assembly
Bellows
Lid assembly:
Wafer sliding sensor
Lid cover
Fore line assembly:
Isolation valve
Fore lines
LL door assembly: VAT valve assembly
Slit valve assembly: slit valve with Kalrez seal
Transfer chamber (buffer):
Robot type: VHP dual
Wafer sensing type: wafer pocket sensor
EDWARDS IPX100 pump
Isolation valve
Pirani gauge
RGA port, NW25
Fore lines
Slit valve assembly:
Slit valve with Kalrez seal
Assembly
Signal lamp tower:
Tower locations: front and rear mounted
Lamp colors: red, amber, green blue
Number of lamps per tower: (4)
Fab interface: standard GEM interface
Factory interface:
Front end interface: 12" FI 2 load ports
Path through: yes
Robot type: NEWPORT KENSINGTON POD 1 and 2
Facility: mainframe gas lines
MF N2 regulation: regulated 80 PSI
Remote systems:
HX 300 W/C heat exchanger: yes
HX 300 chiller for ozonator: yes
System monitors:
Monitor type: VGA with light pen, through the wall
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III ist eine Reaktorausrüstung für die Forschung und Entwicklung von Halbleiterprozessen. AMAT Producer III liefert hochwertige Verarbeitungsergebnisse und bietet gleichzeitig eine überlegene Prozesskontrolle. Es ist so konzipiert, dass es einfach eingerichtet und gewartet werden kann, sodass Benutzer schnell zwischen Prozessen wechseln können. ANGEWANDTE MATERIALIEN Hersteller III ist ein hochpräzises System, das eine Reihe von Fähigkeiten bietet, so dass es für Anwendungen von Epitaxie bis Nanotechnologie geeignet ist. Zu den Merkmalen gehören ein großer Temperaturbereich, Präzisionsdruckregelung, mehrstufiges Pumpen und die Verwendung von Echtzeit-Datenerfassung. Das Gerät sorgt für Hochtemperaturabscheidung und Ätzverarbeitung mit Temperaturen bis 1100 ° C. Dadurch eignet es sich zur Herstellung von Verbindungshalbleitern, wie Galliumnitrid (GaN) und Aluminiumgalliumarsenid (AlGaAs). Produzent III enthält eine Quarzkristall-Mikrowaage (QCM) zur Überwachung der Filmdicke mit einer Präzision von 0,2 nm. Dies kann helfen, Folien mit Dicken im Nanometerbereich genau abzuscheiden. AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III bietet auch eine Reihe von erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen, einschließlich der Fähigkeit, Prozessparameter wie Temperatur, Druck und Gesamtgasfluss in Echtzeit zu überwachen. Die Maschine enthält einen exothermen Regler, der die Temperatur auf jedem Niveau überwacht, um sicherzustellen, dass die Produktion optimiert wird. Dies hilft, wiederholbare und stabile Leistung für jeden Prozesszyklus zu gewährleisten. Die thermischen Fähigkeiten von AMAT Producer III eignen sich auch gut für das Trockenätzen von Umgebungsdruck. Dies beinhaltet die Verwendung von HF-Leistung, um Material bei hohen Temperaturen zu entfernen, so dass präzise Ätzprofile und Profile ohne Unterätzen. Das Gerät bietet eine breite Palette von Prozessoptionen, einschließlich der Fähigkeit, Funktionen in einer kontrollierten Atmosphäre zu glühen und eine selektive Bereichsätzverarbeitung durchzuführen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Hersteller III ist ein robustes Werkzeug, das eine Reihe von Prozessfähigkeiten bietet, so dass Benutzer eine breite Palette von Anwendungen erkunden können, ohne in mehrere Ablagerungs- und Ätzsysteme investieren zu müssen. Es ist ideal für Forschungs- und Halbleiterverarbeitungsanwendungen, da es hohe Präzision, Wiederholbarkeit und schnelle Durchlaufzeiten bietet.
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