Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9091079 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9091079
SACVD System, 8"
(2) Twin chambers, RPC clean
Platform: Split
SACVD: TEOS, TEB, TEPO process SiO2, PSG, BPSG
RPC Chamber Clean: MKS ASTRON-2L
4 color signal tower: (Red-Yellow-Green-Blue)
Mainframe Seriplex BD: 0090-00475 Rev-P1
MF Interface BD: 0100-00752 Rev-003
Cassette Loader:
PRI Robot: Front End Manual Type 200mm: ATM407B-1-S Brooks Auto
PRI Robot Controller: ESC-200-OTF-110: CTL-27900
Filter Assy: MAC10ULPA 11057002
Load-Lock Chamber:
Index Motor Driver: 5-Phase UDK5128NW2
Left Loadlock: 6 Slot / 200mm
Right Loadlock: 6 Slot / 200mm
Left LL Pressure Gauge: 901P-41-0030
Right LL Pressure Gauge: 901P-41-0030
Pumping Line Pressure Gauge: EDWARD APG-L-NW15
Cassette Door Left: VAT 0750X-UE24-AAL7 / 1522 / A-646946
Cassette Door Right: VAT 0750X-UE24-AAL7 / 1522 / A-646946
Wafer Position Sensor: Keyence PS-55
Buffer Chamber:
VHP Robot: VHP Dual Blade Type 200mm
VHP Robot Driver: 0190-02472 Rev-001
IPX-100 Pump: missing
Purge/Vent MFC: FC-2902 5000 sccm
Pressure Gauge: 275 Mini-Convectron Granville-Phillips
Chamber A:
Chamber Set Interface 0015-00421 Rev-P1
Chamber Seriplex BD 0190-35652 Rev-P1
Heater Type HEATER,CERAMIC,NGK,DIMPLED,COMMON 200 MM HA12(Base: 0040-61269)
Heater Material ALN Ceramic
Heater Lift Motor Driver 5 Phase UDK5214NW
Lid Cover Switch ALCO PUSH Button
Heat Exchanger Water Flow Switch Proteus 9AMHXCHP2 / 0015-00649 Rev-001
RF/ OZONE Generator ASTEX 8403A
RPS MKS ASTRON-2L
Gas Panel Configuration:
O2 20L UNIT
NF3 3L UNIT
Ar 5L UNIT
He 10L UNIT
N2 20L UNIT
TEB 3030-09436 LFM LF-410A-EVD TEB 0.5g/MIN F.S.
TEPO 3030-07719 LFM LF-310A-EVD TEPO .25G/MIN F.S.
TEOS 3030-07663 LFM LF-410A-EVD TEOS 4G/MIN F.S.
TEB Injection Valve 0190-36236 VALVE, INJECTION 208V TEB 120C STEC
TEPO/TEOS Injection Valve 0190-36237 VALVE, INJ. 208V TEPO/TEOS 150C STEC
Final Filter GLFPF6101VXM4AM
In Line Gas Filter WG3NS6RR2 / WFRGD3NF-30 3.31"LG
Transducer 852B-13384 : 12ea
LDM LDM-B12PA2CC1 : 12ea
NF3 Interlock Gauge 41A12DCA2BA050 / 100 Torr
Gas Panel I/O Dist GPLI 0100-00259 P4
Gas Panel Seriplex BD 0190-35653
Chamber B:
Chamber Set Interface 0015-00421 Rev-P1
Chamber Seriplex BD 0190-35650 Rev-P1
Heater Type HEATER,CERAMIC,NGK,DIMPLED,COMMON 200 MM HA12(Base: 0040-61269)
Heater Material ALN Ceramic
Heater Lift Motor Driver 5 Phase UDK5214NW
Lid Cover Switch ALCO PUSH Button
Heat Exchanger Water Flow Switch Proteus 9AMHXCHP2 / 0015-00649 Rev-001
RF/ OZONE Generator ASTEX 8403A
RPS MKS ASTRON-2L
Gas Panel Configuration:
O2 20L UNIT
NF3 3L UNIT
Ar 5L UNIT
He 10L UNIT
N2 20L UNIT
TEB 3030-09436 LFM LF-410A-EVD TEB 0.5g/MIN F.S.
TEPO 3030-07719 LFM LF-310A-EVD TEPO .25G/MIN F.S.
TEOS 3030-07663 LFM LF-410A-EVD TEOS 4G/MIN F.S.
TEB Injection Valve 0190-36236 VALVE, INJECTION 208V TEB 120C STEC
TEPO/TEOS Injection Valve 0190-36237 VALVE, INJ. 208V TEPO/TEOS 150C STEC
Final Filter GLFPF6101VXM4AM
In Line Gas Filter WG3NS6RR2 / WFRGD3NF-30 3.31"LG
Transducer 852B-13384 : 12ea
LDM LDM-B12PA2CC1 : 12ea
NF3 Interlock Gauge 41A12DCA2BA050 / 100 Torr
Gas Panel I/O Dist GPLI 0100-00259 P4
Gas Panel Seriplex BD 0190-35762
VME Controller:
#1 SBC BD V452 0090-76133 Rev A
#2 Radisys BD Radisys AMAT P133 0660-01857
#3 Unused -
#4 Unused -
#5 MEI-2 BD 0190-00387 A010-008 Rev 5
#6 Unused -
#7 MEI-1 BD 0190-00387 A010-008 Rev 5
#8 Unused -
#9 I/O Expansion BD 0090-76040
NT Hard Disk Seagate ST34520N
CD-ROM Use
NT Floppy Disk 3.5"
Legacy Hard Disk 0190-00405
Legacy Floppy Disk 3.5" SCSI FD235HF C700-U 193077C7-00
VME P2 Distribution BD 0100-00430
Loadlock Left Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Loadlock Right Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#A1 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#A2 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#B1 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#B2 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Active Wafer Sensor Keyence PZ2-41
Latest Software Version B3512
Currently de-installed.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III ist ein fortschrittlicher Produktionsreaktor, der für die Herstellung und den Einkauf von Halbleitern verwendet wird. Seine fortschrittlichen Eigenschaften machen ihn zu einem der zuverlässigsten und effizientesten verfügbaren Produktionsreaktoren. AMAT Producer III enthält einen HF-Antrieb, Frequenzgenerator, Hochspannungsnetzteile, Laserscanner und Niederspannungsnetzteile. Alle diese Komponenten arbeiten zusammen, um Produktionsprozesse zu optimieren und die Wiederholbarkeit und Produktivität zu verbessern. Der HF-Antrieb ermöglicht hohe Abscheideraten mit einer Vielzahl von Prozessschritten, während der Frequenzgenerator die Spannung und Leistung steuert, die dem Reaktor zugeführt wird. Der Laserscanner regelt die Menge des auf dem Wafer abgeschiedenen Materials. ANGEWANDTE MATERIALIEN Hersteller III bietet Gleichmäßigkeit in der Materialabscheidung mit einem aktiven Durchflussregelsystem, das dynamisch eingestellt wird, um den richtigen Materialpegel auf dem Wafer zu halten. Dieses System stellt auch sicher, dass Abscheide- und Ätzprozesse wiederholbar sind. Zum Hersteller III gehört außerdem ein Drucküberwachungssystem, das eine bessere Prozesskontrolle und eine verbesserte Produktqualität ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III ist auch für Hochdurchsatz- und Hochtemperaturprozesse konzipiert. Sein Suszeptor hat spezielle Designs, die Kontaminationen reduzieren und schnelle Aufwärmzeiten ermöglichen. Der Suszeptor ermöglicht auch eine höhere Gleichmäßigkeit des Materials auf dem Wafer. AMAT Producer III ist ideal für die Herstellung aller Arten von Materialien, egal ob für monolithische Wafer, Verbundhalbleiter oder sogar fortgeschrittene Materialien. Es kann mit einer Vielzahl von Gasen betrieben werden, die von Wasserstoff bis Tetrafluorid reichen. Es ist auch so konzipiert, dass es mit allen Arten von Halbleiterprodukten kompatibel ist, sodass die Hersteller wissen, dass sie in der Lage sind, alles zu verarbeiten, was ihre Kunden benötigen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Hersteller III entspricht allen Industriestandards und bietet Anwendern verbesserte Zuverlässigkeit und erstklassige Leistung. Es enthält eine umfassende Reihe von Sicherheitsfunktionen, die die Betreiber schützen und sicherstellen, dass jeder Prozess so effizient wie möglich ist. Seine Eigenschaften bieten den Herstellern auch die Möglichkeit, alle ihre Produktionsanforderungen zu erfüllen. Hersteller III ist ein sehr zuverlässiger und effizienter Produktionsreaktor, der den Anwendern die Produktionsgenauigkeit und Wiederholbarkeit bietet, um ihre Bedürfnisse zu befriedigen. Mit seiner Fähigkeit, verschiedene Materialien zu verarbeiten und sein flexibles und vielseitiges Design, ist es sicher, die Anforderungen aller Arten von Halbleiterherstellern zu erfüllen. Bei der Suche nach einem Produktionsreaktor, der höchste Leistung und Zuverlässigkeit erfüllt, ist AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III die ideale Wahl.
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