Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9238404 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III ist ein Reaktor, der zum Ätzen und Abscheiden von Materialien mittels chemischer Dampfabscheidung (CVD) zur Herstellung von III-V- und Quarzhalbleiterscheiben ausgelegt ist. Es ist eine Großmaschine mit der Arbeitskammer mit einer Länge von 25,6 cm (10 Zoll). Der Reaktor enthält zwei Hauptkammern: die Quelle und das Plasma, die Materialschichten in den gewünschten Dicken abscheiden. Die Quellkammer ist mit bis zu vier chemischen Vorstufen ausgestattet und enthält einen Blasen, ein Heizelement, einen Verteiler, einen Duschkopf und einen HF-Generator. Die Plasmakammer enthält Hochfrequenzplasmen, die durch eine im oberen Bereich der Kammer angeordnete Koaxialantenne erzeugt werden. Das Ausgangsgas wird dann gefiltert und als gleichmäßiger, gleichmäßiger Dampf durch den Duschkopf gepumpt. Die Partikel stoßen dann unter Abscheidung der gewünschten Materialien mit der Oberfläche des Wafers zusammen. AMAT Producer III nutzt die mehrdimensionale Prozessabbildung, um eine präzise Steuerung der Ätzrate der Wafer- oder Schichtdicke zu erreichen. Es verfügt über ein Steuerungssystem, um wiederholbare Ätzprozesse zu ermöglichen und kann genau an spezifische Kundenanforderungen angepasst werden. Der Reaktor wurde sowohl für Batch- als auch Einzelwafer-Prozessfähigkeit ausgelegt. Die Kammerschlösser ermöglichen ein einfaches Be- und Entladen der Wafer, was zu einer verbesserten Produktivität führt. Darüber hinaus wurde der Hersteller III mit einer umfassenden Palette von Schutzsystemen ausgestattet, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten. Dazu gehören entzündliche Gasdetektion, Niedertemperaturüberwachung und Notabschaltungssysteme. Abschließend ist Produzent III ein effizienter und zuverlässiger Reaktor, der zum Ätzen und Abscheiden von Materialien verwendet wird. Es verwendet mehrdimensionale Prozess-Mapping, um eine präzise Kontrolle der Ätzrate und Schichtdicke zu gewährleisten. Es wurde für Batch- und Single-Wafer-Prozessfähigkeiten mit einer umfassenden Palette von Sicherheitsfunktionen konzipiert. Dieses Reaktorsystem liefert konstante, hochwertige Ergebnisse für die Herstellung von III-V- und Quarzhalbleiterschichten.