Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer S #9003816 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9003816
System, 12"
Chamber A Twin BPSG
Chamber B Twin BPSG
Chamber C Twin BPSG
Wafer shape: SNNF
SMIF interface: no
Chamber A:
Frequency: None
Manometer: 20/1000 Torr
Clean type (rpc): Astex
Dpa: No
Chamber B:
Frequency: None
Manometer: 20/1000 Torr
Clean type (rpc): Astex
Dpa: No
Chamber C:
Frequency: None
Manometer: 20/1000 Torr
Clean type (rpc): Astex
Dpa: No
Electrical requirements:
Line Frequency: 60 Hz
Line Voltage: 200/208 V
Line Amperage: 240 A
Facility ups interface : Yes
System monitor:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Standalone
3rd Monitor: None
Mainframe:
Mainframe Type: Shrinkage
Robot Type: VHP dual
Loadlock Cassette: Manual 2 cassette
SMIF: No
SMIF Robot: NA
Ozone generator:
Chamber A: AX8400
Chamber B: AX8406B
Chamber C: AX8406B
Dry pumps:
Chamber A: -
Chamber B: -
Chamber C: -
Loadlock: IPX100
VME rack:
SBC: Yes
VGA: Yes
MEI #1: Yes
MEI #2: Yes
I/O EXPAN.: Yes
Monitor Select: Yes
Floppy: Yes
HDD: Yes
Gas delivery:
MFC Type: STEC 410A (LFM), Unit C8161
Valves: Fujikin 5 Ra max
Filters: Millipore
Transducers: MKS without display
Regulators: Parker
Single Line Drop (SLD): No
SLD Gas Lines Feed: Top feed
System Cabinet Exhaust: Top
Gas pallet configuration:
CH.A SIZE MODEL
O2 30 SLM UFC 8161
NF3 5 SLM UFC 8161
AR 5 SLM UFC 8161
HE 30 SLM UFC 8161
N2 30 SLM UFC 8161
TEOS 7000 LF-410A-EVD
TEB 1500 LF-310A-EVD
TEPO 500 LF-310A-EVD
CH.B SIZE MODEL
O2 30 SLM UFC 8161
NF3 5 SLM UFC 8161
AR 5 SLM UFC 8161
HE 30 SLM UFC 8161
N2 30 SLM UFC 8161
TEOS 7000 LF-410A-EVD
TEB 1500 LF-310A-EVD
TEPO 500 LF-310A-EVD
CH.C SIZE MODEL
O2 30 SLM UFC 8161
NF3 5 SLM UFC 8161
AR 5 SLM UFC 8161
HE 30 SLM UFC 8161
N2 30 SLM UFC 8161
TEOS 7000 LF-410A-EVD
TEB 1500 LF-310A-EVD
TEPO 500 LF-310A-EVD
Includes:
(2) Ceramic Heater
(2) Ceramic Heater
(2) Ceramic Heater
Buffer Chamber, Chamber A
EFEM
(3) Cermic Liner, NF3 Gas Line
(1) Signal Cable, Exhase flange, Photo helic
Monitor Panel
(2) RPS Ass'y
(2) RPS Ass'y
(2) RPS Ass'y
Load Lock Pump
(6) AL Pumping Ring, Ceramic Pumping Ring
Monitor
Monitor
Chamber B
Chamber C
Temp Controller
(6) AL Shower Head, AL Blocker Plate
(6) AL Lid Ass'y
(6) Ceramic Pumping Ring
(3) AL Lid Block
(6) Top Ceramic Ring
Ch C Foreline, Mux Controller
Producer M,RF AC
O3 Cabinet
AC Rack
A-Chamber Cover
B-Chamber Cover
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer S ist ein industrieller chemischer Dampfabscheidungsreaktor (CVD). Es wurde entwickelt, um Hochleistungs-Dünnschichten auf Scheiben/Substraten mit Durchmessern bis 200 mm abzuscheiden. Es besteht aus einer geschlossenen Kammer und einer Reihe von Prozessquellen, die Vorläufer in einem nichtthermischen atmosphärischen Druckplasma reagieren. Dieses Plasma, das durch die Hochfrequenz-ADT (Atmospheric Direct-Current) -Technologie erzeugt wird, verstärkt die Oberflächeninteraktionen, indem die Vorläufer in kleinere Fragmente zerlegt werden, die gleichmäßiger über die Oberfläche des Wafers verteilt werden können. Das Plasma ist auch wesentlich für eine gleichmäßige Prozesstemperatur, die für eine hochwertige Filmabscheidung in CVD notwendig ist. Die Prozessquelle umfasst auch Hochfrequenz-Halogenlampen und Quarzheizelemente, um gleichmäßige Temperaturverteilungen über das Kammerinnere zu gewährleisten. Die gleichmäßige Temperaturverteilung gewährleistet Zuverlässigkeit und Reproduzierbarkeit bei der Herstellung dünner Folien. Dies ist besonders wichtig in Bereichen wie Halbleiter- und Nanotechnologie-Anwendungen, in denen eine hohe Folienqualität benötigt wird. Neben den gleichmäßigen Temperaturen und den zuverlässigen und reproduzierbaren Dünnschichtabscheidungen hat AMAT PRODUCERS weitere Vorteile. Beispielsweise kann die Wärmequelle des Plasmas ohne Unterbrechung des Prozesses gewechselt werden, was einen hohen Durchsatz mit minimalen Wärmeeinflüssen auf den Wafer ermöglicht. Es hat auch eine schnelle Zykluszeit von bis zu 30 Minuten, eine hohe Wafer-Ladekapazität von 30 Wafern und eine niedrige Betriebskosten. Schließlich ist APPLIED MATERIALS PRODUCER-S mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche (GUI) ausgestattet, wodurch es einfach und benutzerfreundlich zu bedienen und zu warten ist. Diese GUI ist auch mit effizienten Rezepten optimiert, um Erfolge in verschiedenen Anwendungsbereichen zu erzielen und ein Überwachungssystem für Hardware- und Prozessparameter wie Vakuumniveau und Abscheiderate.
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