Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE APF #293649954 zu verkaufen

ID: 293649954
Wafergröße: 12"
CVD System, 12" Transfer chamber Loader AC Rack.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE APF ist ein revolutionärer Reaktor, der für atomare Schichtabscheidungsprozesse (ALD) entwickelt wurde. Es ist ein hocheffizientes, voll ausgestattetes System für die Halbleiterherstellung und andere Geräteherstellung. AMAT Producer SE APF Reaktor ist in der Lage, einheitliche und konforme Schichten mit Sub-Nanometer Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu produzieren. Der Reaktor ist ein Einwafer-Bearbeitungssystem mit eingebetteter Plasmaquelle und gleichmäßiger Abscheidung über einen Wafer. Es umfasst eine ultrahochdichte Plasmaquelle, automatisierte Präzisionssteuerungen und eine Vakuumkammer. Die ultrahochdichte Plasmaquelle wird für fortgeschrittene Materialabscheidungs- und Ätzanwendungen verwendet. Es bietet hohe Leistungsdichte, Hochenergieplasma, die Prozesssteuerung und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit bietet. Es verfügt auch über eine hochauflösende digitale Plasmasteuerung zur Präzisionskontrolle der Materialabscheidung und -ätzung. Die integrierte Quelle ermöglicht eine gleichmäßige Bearbeitungsfläche mit beispielloser Abscheidungsgenauigkeit. Die automatisierten Präzisionssteuerungen beinhalten einen intelligenten Controller, der die Prozessparameter präzise steuern kann. Dies ermöglicht konsistente, wiederholbare Ergebnisse unabhängig von der Proben- oder Wafergröße. APPLIED MATERIALS Producer SE APF Reaktor umfasst auch eine ausgeklügelte Benutzeroberfläche und ein fortschrittliches Steuerungssystem, das die Optimierung von Prozessparametern bei jedem Schritt der Abscheide- und Ätzprozesse ermöglicht. Die Vakuumkammer ist aus hochpräzise bearbeitetem Metall und einem hochwertigen optischen Quarzfenster aufgebaut. Es bietet ausgezeichnete Beständigkeit gegen Wärmeausdehnung, Korrosion durch aggressive Chemikalien und Kontamination. Die Kammer ermöglicht eine vollständige Automatisierung der Abscheide- und Ätzprozesse und ermöglicht einen höheren Durchsatz bei minimaler Verschmutzung. Dieser Hochleistungsreaktor bietet ultrapräzise Abscheidung und Ätzung für Halbleiterindustrie. Die hochauflösende digitale Plasmasteuerung ermöglicht Fertigungsprozesse fortschrittlicher Materialien mit Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Die integrierte Quelle sorgt für eine gleichmäßige Abscheidung über den Wafer und die automatisierten Präzisionssteuerungen ermöglichen eine Optimierung der Prozessparameter. Mit all diesen Eigenschaften ist der Producer SE APF Reaktor eine ausgezeichnete Wahl für die Geräteherstellung.
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