Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #293591459 zu verkaufen

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ID: 293591459
Weinlese: 2005
PECVD System, 12" Does not include Hard Disk Drive (HDD) Chamber A and B: Type: APF Gas name / MFC Size C3H6 / 3000 SCCM NF3 / 1000 SCCM O2 / 15000 SCCM AR / 10000 SCCM HE / 5000 SCCM O2 / 10000 SCCM Ar / 10000 SCCM N2 / 15000 SCCM He / 1000 SCCM RF (High frequency): 13.56 MHz, 3 kW (maximum) Remote plasma: 400 kHz, 10 kW (maximum) 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE ist ein hochmoderner Halbleiterherstellungsreaktor, der branchenführende Integration, Verfügbarkeit und Durchsatz für die fortschrittliche Chipherstellung liefert. AMAT Producer SE bietet die ultimativen Möglichkeiten der Halbleiterherstellung und bietet eine vollständige Waferbearbeitung von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll. Der Reaktor ist DE HDD (Diamond Edge Rapid Deposition) und IDEALD bereit, mit optionalen Upgrades für höhere Abscheidungsraten und verbesserte Hülsenstabilität. Das Design verfügt über eine Vielzahl fortschrittlicher Funktionen zur Maximierung des Durchsatzes, einschließlich eines Neun-Zonen-Mehrkorb-Laders und eines Hochdurchsatz-Cluster-Abscheideofens. Das gesamte System wurde entwickelt, um die Präzision und Effizienz der Chipherstellung zu gewährleisten und gleichzeitig manuelle Operationen zu vermeiden und Ausfallzeiten zu reduzieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Hersteller SE-Reaktor verwendet Wärmebildtechnologien und fortschrittliche Prozesse, um ein unübertroffenes Maß an Schneiderei für einzigartige Waferanwendungen zu liefern. Das System bietet eine schnelle und genaue Lastübereinstimmung basierend auf Waferzählungen und Stapelkonfiguration. Fortschrittliche Prozesssteuerungssysteme verwalten die Temperatur-, Druck- und Gasreaktionsbedingungen, um eine präzise Anwendung fortschrittlicher Materialien zu gewährleisten. Die robusten Prozessleitsysteme bieten auch eine einheitliche Abscheideprozesse und bieten Gleichmäßigkeit auch über mehrere Korbkonfigurationen. Innovative Dual-Observation-Technologien ermöglichen es Anwendern, den Prozess und seine Ergebnisse genau zu überwachen. Die fortschrittliche dynamische Steuerung der Flüssigkeit sorgt für eine gleichmäßige Materialzufuhr mit Kontrolle über die Dicke, Zusammensetzung und Oberflächenstruktur. Der Reaktor wurde mit fortschrittlichen Scan- und Bildgebungstechnologien entwickelt, um Wafer in Echtzeit zu analysieren und Material- oder Prozessabweichungen zu erkennen. Darüber hinaus wendet Producer SE fortschrittliche Oberflächenprüftechniken an, um eine gleichmäßige Oberflächengüte zu gewährleisten. Der vielseitige AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE ist auf die Bedürfnisse des Anwenders konfigurierbar und lässt sich nahtlos in bestehende Produktionssysteme integrieren. Es ist auch kompatibel mit Materialien aus verschiedenen Quellen und seine fortschrittlichen Signalverarbeitungsalgorithmen ermöglicht es Benutzern, Materialunterschiede schnell zu identifizieren. Die AMAT Producer SE verfügt über ein umfassendes Set von erstklassigen Komponenten, einschließlich einer hochmodernen grafischen Benutzeroberfläche (GUI). Die GUI ermöglicht es Benutzern, Vorgänge von der Verbindung und Steuerung des Prozesses bis zur Planung und Verwaltung von Aufträgen zu verwalten. Insgesamt bietet APPLIED MATERIALS Producer SE Reaktor ein beispielloses Maß an Prozesskontrolle, Genauigkeit und Geschwindigkeit für die fortschrittliche Chipherstellung. Diese anspruchsvolle Halbleiterherstellungseinheit bietet eine effiziente Verarbeitung, maximalen Durchsatz und perfekte Genauigkeit. Die leistungsstarken, erstklassigen integrierten Technologien sorgen dafür, dass die gesamte Waferbearbeitung unabhängig von der Anwendung konstant präzise ist.
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