Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9182254 zu verkaufen
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ID: 9182254
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
CVD System, 12"
(2) Chambers
Customer fab options:
Electrical requirements:
Line frequency: 60Hz
Line voltage: 200/208 VAC Platform
Chambers:
Chamber A and B:
Chamber process: XJ (PE Silane twin)
RF1 Generator: APEX 3000
Gas delivery:
Gas pallet type: Surface mount vertical
Regulated gas panel: No
Regulated TMS: No
Gas feed: Top
Gas panel cabinet exhaust: Top
Facilities interlock indicator: No
Facilities / Scrubber interface output: Fault
Transducers: Setra
Filters: Nippon
Manual valves: Hamlet
Pneumatic valves: Hamlet
Liquid source: No
Gas pallet configuration supplement:
Chamber A:
Gas line stick position / Process gas / MFC Size / Regulator (Yes, No) / Transducer (Yes, No)
#1 / C3H6 / 3000sccm / No / No
#3 / NF3 / 1000sccm / No / No
#8 / 02 / 30000sccm / No / No
#9 / AR / 15000sccm / No / No
#10 / HE / 5000sccm / No / No
#11 / O2 / 15000sccm / - / -
#12 / AR CLN / 10000sccm / No / No
#13 / N2 CLN / 15000sccm / No / No
Liquid 1 / P-N2 / - / No / Yes
Liquid 2 / P-N2 / - / No / Yes
Chamber B:
Gas line stick position / Process gas / MFC Size / Regulator (Yes, No) / Transducer (Yes, No)
#1 / C3H6 / 3000sccm / No / No
#3 / NF3 / 1000sccm / No / No
#8 / O2 / 30000sccm / No / No
#9 / AR / 15000sccm / No / No
#10 / HE / 5000sccm / No / No
#11 / O2 / 15000sccm / - / -
#12 / AR CLN / 10000sccm / No / No
#13 / N2 CLN / 15000sccm / No / No
#17 / P-N2 / - / No / Yes
#18 / P-N2 / - / No / Yes
Mainframe:
Local center finder: Yes
Cu Wafer sensor: No
MF Ch Harness installed: A & B
Third MF IO motion card
Robot blade: Standard VHP
Factory interface options:
300mm Factory interface 5.3 options:
WIP Delivery type: OHT
Pre alignment and centering: Single axis aligner
Wafer pass thru & storage: 8 Slot wafer pass thru
Atmospheric robots: KAWASAKI 2 fixed robots with edge grip
Remote control system cabable: Yes
Docked E99 reading capability: No
Load port types: Enhanced 25 wafer FOUP
Load port operator interface: Standard 9 light
Configurable color lights: No
Docking flange shield: No
Air intake system: Front facing intake plenum
E84 Pl/O Sensors and cables: Upper E84 sensors and cables
OHT Light curtain: Light curtain
Carrier ID host interface: Yes
Light towers: (3) Colors configurable
Fast data gateway software: No
Heat exchanger / Chiller:
Heat exchanger
AMAT HX hose and manifolds: No
Remote AC:
Facilities UPS interface
Chamber configuration:
Ch A / Ch B:
BFC
2" Foreline
T/V Type: 683B
RF Filter: (0090-05813)
RPS
FFU Controller
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE (Plasma Enhanced Epitaxy Reactor) ist ein kommerzielles, Plasma-basiertes Epitaxie-Verfahren, das für hochwertiges Halbleiterwachstum sowohl auf Silizium als auch auf Nicht-Silizium-Substraten verwendet wird. AMAT Producer SE bietet volle Prozesskontrolle mit einer äußerst zuverlässigen, anspruchsvollen und kostengünstigen Produktionsplattform. Der Reaktor ist in der Lage, hochwertige Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Flexibilität für die Prozessabstimmung zu liefern. Es ist das fortschrittlichste, kosteneffiziente Plasma-Epitaxiewerkzeug und ideal für die Serienproduktion. APPLIED MATERIALS Producer SE bietet eine Reihe von Funktionen wie eine einzigartige parallele Plasmaquellenkonfiguration, einstellbare Schlitzverschlusstechnologie, geringe Fehlerdichten und eine große Auswahl an Abscheideprozessfähigkeiten. Die Parallelplasmaquellenkonfiguration ermöglicht Wafer-zu-Wafer-Prozessgleichförmigkeit und überlegene Dotierstoffgleichförmigkeit über große Waferdurchmesser. Die verstellbare Schlitzverschlusstechnologie ermöglicht eine präzise Steuerung der Tiefe der Plasmadiffusion und beseitigt Schwankungen durch unterschiedliche Gate-Vorspannungen. Darüber hinaus sorgen die geringe Fehlerdichte und die breite Palette an Filmabscheidungsfähigkeiten für hohe Ausbeuten an fehlerfreien Hochleistungsfolien und die Fähigkeit, Folieneigenschaften auf spezifische Geräteanforderungen abzustimmen. Der Reaktor eignet sich gut für die Geräteherstellung mit einer Skalierung von 200 mm bis 300 mm Wafern mit einer Mindesteigenschaftsgröße von 8 nm. Es eignet sich für viele verschiedene Abscheidungsprozesse, darunter für Silizium- und Nichtsiliziumsubstrate, wie Siliziumnitrid, Niederdruck-CVD, PECVD, SiGe und HFO. Produzent-SE-Prozessor verfügt über die Fähigkeit, drei separate Step-Flow-Prozesse automatisch in die Standardverarbeitung zu integrieren und verschiedene Abscheidungsprozesse zu kombinieren. Die AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE bietet auch eine Chargenverarbeitung über eine Vielzahl von Temperaturen sowie eine hohe Abscheidung und schnellere Backzeiten. Die hochgenauen Netzteile des Reaktors bieten eine präzise Steuerung der Filmdicken bis hin zu Oxiddicken von 0,5-1,0 nm. Eine Vielzahl von nichtinvasiven Diagnostika kann am Reaktor durchgeführt werden, wie Druckwechselanalyse, HF-Prüfung, Wafer-Überwachung und Abscheidungsgleichförmigkeitsprüfung. Schließlich übertrifft AMAT Producer SE die Anforderungen der Industrie an Leistung und Zuverlässigkeit, was durch seine extrem geringe radiale Drift über die Lebensdauer des Produkts gezeigt wird. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Producer SE das zuverlässigste und kostengünstigste Werkzeug für die Abscheidung von hochwertigen Epitaxiefilmen für verschiedene Halbleiteranwendungen. Es bietet eine breite Palette von Funktionen und Funktionen, die eine überlegene Prozessgleichmäßigkeit und ausgezeichnete Flexibilität für die Prozessabstimmung gewährleisten und die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente mit hohem Volumen ermöglichen.
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