Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9215469 zu verkaufen
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ID: 9215469
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
CVD System, 12"
Process: SA-USG
(2) Twins
FI Robot: KAWASAKI
Chamber configuration: Chamber-A,B
RPS: MKS ASTRONex FI80131
Heater: ALN
MKS AX8407A Ozone generator
Gas delivery
Chamber A,B:
Gas / Size / Model
O2 / 30slm / Unit 8526C
N2 / 50slm / Unit 8565C
He / 30slm / Unit 8565C
NF3 / 7slm / Unit 8565C
Ar / 15slm / Unit 8565C
TEOS / 7g/min / STEC LF-A40M-A-EVD
Missing parts:
Noise filter
RPSC Line
Lid cover
HDD
Floppy
H/E
Chiller
OTF
iPump
INTLK PCB
Lid hinge
Heater lift assy
Gas: N2
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE ist ein Halbleiterreaktor, der es Kunden ermöglicht, dünnere Vollscheiben und eine gleichmäßige Filmabscheidung zu erreichen. Der Reaktor ist ideal für die Herstellung von super integrierten Schaltungen und erweiterten Speichergeräten. Der Reaktor nutzt eine hohe Prozesskontrolle, um zuverlässige und wiederholbare Wafer zu gewährleisten. Die Prozesskammer ist mit einer Edelstahlauskleidung für Haltbarkeit und einfache Rekonfiguration gebaut. Die Kammer integriert auch industrielle Vakuumsysteme und isolierte Fenster. Diese Isolierung hilft, Energieverluste zu reduzieren, was zu einer besseren Prozesssteuerung führt. Die Kammer bietet zudem eine verbesserte Be-/Entladung von Wafern und eine bessere Substratvorausrichtung. Die Prozesskammer ist mit einem Deaktivator ausgestattet, um eine optimale Reinigung zwischen verschiedenen Waferläufen zu gewährleisten. Das Werkzeug verfügt über eine erweiterte Dualzonen-Steuereinrichtung mit einem rotierenden Deaktivierungssystem und einer statischen Deaktivierungseinheit. Diese Maschine ermöglicht überlegene Prozessrezepte, die auf maximale Ausbeute und Leistung abgestimmt werden können. Der Reaktor ist mit einer isolierten Zone ausgestattet, um die Gefahr einer Kontamination durch Wafer-zu-Wafer-Prozesse zu verringern. Es verfügt über einen fortschrittlichen in-situ Plasmagenerator mit einer hochkonfigurierbaren Steuerungsarchitektur. Diese In-situ-Plasmafunktionalität erhöht die Prozessausbeuten, indem die Menge der mit der Waferreinigung verbundenen Variablen verringert wird. Die Warmwandkonstruktion des Reaktors erreicht hohe Temperaturen bei niedrigen thermischen Gradienten. Es liefert eine präzise Temperaturregelung auf kleinen Substraten und erzeugt eine überlegene thermische Gleichmäßigkeit auf großen Substraten. Die heiße Wand ermöglicht auch eine bessere Effizienz des Energieverbrauchs. Das Vakuumwerkzeug des AMAT Producer SE Reaktors sorgt dafür, dass Wafer unter präzisen Vakuumbedingungen verarbeitet werden. Die Vakuumanlage verwendet eine Kombination aus Turbopumpen, einer Drehflügelpumpe und einer mechanischen Verstärkerpumpe. Die Kombination sorgt für hohe Prozessstabilität und Wiederholbarkeit. Der Reaktor ist mit einem fortschrittlichen Fernüberwachungsmodell ausgestattet, das Echtzeitdiagnosen und Datenzugriff bietet. Es bietet auch detaillierte Prozessprotokolle, um den Betrieb zu vereinfachen und die Leistung der Ausrüstung zu erhalten. Die Fernüberwachungsausrüstung ermöglicht zudem eine verbesserte Fehlerbehebung und Prozessoptimierung.
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