Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9280399 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE
ID: 9280399
Wafergröße: 12"
CVD System, 12" (3) Chambers Process: SiCOH U LowK dielectric.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE ist als Halbleiterätzreaktor konzipiert, der dazu dient, bestimmte Materialien mit der geringsten Beschädigung von der Oberfläche eines Substrats genau einzuätzen oder zu entfernen. Dieser Reaktor kann die Herstellung hochgenauer Merkmale mit verbesserter Maß- und elektrischer Steuerung durch eine Vielzahl von Ätzprozessen erleichtern. Es ist mit einer Vakuumausrüstung ausgestattet, um eine stabile und konsistente Prozessumgebung zu erhalten, und einem integrierten Siliziumkristallmonitor, der eine präzise Temperatur- und Leistungsregelung bietet. Der Reaktor nutzt eine Reihe leistungsfähiger Technologien, um gewünschte Merkmale und Effekte zu erzeugen, einschließlich Ionenimplantation, Photoresist-Ätzen und Photoresist-Strippen. Seine integrierte Plasmaquelle und einzelne Waferquelle bieten Ätzfähigkeit für eine breite Palette von Materialien, einschließlich einer Vielzahl von Metallen und Kunststoffen. Das Direct-Write-Scanning-System unterstützt komplexe Musterungen für höchste Automatisierung und Genauigkeit. Diese Einheit ermöglicht eine erweiterte Prozesssteuerung, um wiederholbare und genaue Prozessergebnisse zu erzielen. Der Reaktor verfügt über eine Vakuumkammer, die hohe Vakuumspiegel aufrechterhalten kann und einen effizienten Materialtransport und -ätzen ermöglicht. Es bietet eine ausgezeichnete Prozesssteuerung mit präziser Gaszufuhr, Ionenenergien und Ionenenergiesteuerung, so dass Benutzer die Ätzrate ihres Zielmaterials genau steuern können. Darüber hinaus ermöglicht eine Endpunkterkennungsmaschine wiederholbare Prozessergebnisse, die eine konsistente Endeinrichtung gewährleisten. AMAT Producer SE ist für einen sicheren und effizienten Betrieb in Serieneinstellungen ausgelegt. Sein proprietäres Kühldesign verfügt über zwei wassergekühlte lineare Stufen, die eine schnelle Prozesseinleitung und -kühlung des Substrats ermöglichen. Sein fortschrittliches Vakuumwerkzeug ist in der Lage, hohe Partikeldichten zu handhaben, um die zuverlässige Leistung aller Prozesse zu gewährleisten. Die integrierte Reaktionskammer sorgt für gleichmäßige Verdünnungsraten bei gleichbleibendem Temperaturprofil über die Substratoberfläche. Darüber hinaus bietet es eine Drucksteuerung zur Reduzierung des Materialtransports, eine konstante Gasströmungsgeschwindigkeit über die Prozesszeit und eine gleichmäßige Pumpgeschwindigkeit. Dies gewährleistet eine ausgezeichnete Ätzgleichmäßigkeit, was zu präzisen Ätzprofilen und genauen Gerätefunktionen führt. APPLIED MATERIALS Producer SE Asset bietet ein umfassendes Paket von Funktionen und Funktionen, die eine verbesserte Halbleiterherstellungsleistung und eine erhöhte Kontrolle der Ätzbedingungen ermöglichen. Von der Maximierung der Gleichmäßigkeit bis zur Optimierung der Ausbeuten ist es eine zuverlässige, effiziente und kostengünstige Ätzreaktorlösung, die für verschiedene Anwendungsarten geeignet ist.
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