Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9354294 zu verkaufen
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ID: 9354294
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2014
PECVD System, 12"
Process: TFM U Low-K dielectric
(3) Chambers:
Chamber A-BCHD
Chamber B-BCHD
Chamber C-BCHD
(3) FOUPs
CVD85x
Missing parts:
User interface monitor / Keyboard
Heater
MF AC Panel
Manometers
RF Generator
MF-LL Heater
MF- Foreline
FI- Door interlocks
FI- KVM and Monitor
MF-LCF Sensor
MF- Buffer robot
MF- Gold box
Lid stack
Lid covers
RPS
FI- FFU Pid
Gas Box
RF Generators
MF- MF LL
MF- MF I/O
AC Box
RPS
FI-FI ATM
GPLIS and gas panel
Robots and controller
CIM: SECS / GEM
2014 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE (AMAT) reactor ist eine Art Halbleiterreaktor, der bei der Herstellung moderner integrierter Schaltungen (ICs) verwendet wird. Der Reaktor arbeitet, indem dünne Materialschichten, wie Silizium, auf einem Halbleitersubstrat abgeschieden werden. Das Substrat besteht typischerweise aus Silizium, kann aber auch andere Materialien wie Galliumarsenid oder Aluminiumoxid enthalten. Anschließend wird der Halbleiterfilm mit Lithographie geätzt, wodurch Transistoren und andere Bauelemente auf dem Substrat strukturiert werden können. ANWENDUNGSMATERIALIEN Reaktor hat eine Vielzahl von Fähigkeiten, einschließlich Abscheidung und Ätzprozess. Bei der Abscheidung wird ein physikalisches oder chemisches Aufdampfverfahren (PVD/CVD) verwendet, um Materialien vom Nanometerbereich bis zu einigen hundert Nanometern Dicke auf das Substrat zu schichten. Das Ätzverfahren verwendet Lithographie; die verwendeten Laser können überall vom Ultraviolett bis in den Infrarotbereich gelangen, um das Substrat in der gewünschten Weise präzise zu strukturieren. Der Reaktor ist für den Einsatz in hochvolumigen, hochpräzisen Prozessen ausgelegt. Für viele Anwendungen ist der AMAT/APPLIED MATERIALS Reaktor in der Lage, zeitnah genaue Ergebnisse zu liefern. Dies liegt an seiner streng kontrollierten Umgebung, Hochleistungslasersystemen und den computergestützten Designwerkzeugen, die den gesamten Prozess programmieren. Der Reaktor hat einen hohen Durchsatz, was bedeutet, dass er in kurzer Zeit viele Produkte herstellen kann. Darüber hinaus bietet es eine hervorragende Plattform zur präzisen Ätzung und genauen Überwachung des Prozesses, die für viele Halbleiteranwendungen unerlässlich ist. Insgesamt ist der AMAT-Reaktor ein ideales Werkzeug für die modernen IC-Fertigungsprozesse. Es liefert die notwendige Genauigkeit und Geschwindigkeit, die in der aktuellen Halbleiterindustrie gefordert wird. Es ist ein zuverlässiges Werkzeug, das sich für beliebig viele Anwendungen eignet und ein unersetzliches Werkzeug in der Welt der Halbleitertechnologie ist.
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