Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9361863 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE ist ein fortschrittlicher Halbleiterreaktor, der eine maximale Ätzrate, Gleichmäßigkeit und Flexibilität bietet. Es ist ideal für Anwendungen mit hohem Durchsatz in der Massenproduktion von Halbleiterscheiben. Im Mittelpunkt der AMAT Producer SE steht die verbesserte Temperaturregelung (ETC), die für einen hohen Durchsatz mit 4 Prozesskammern optimiert ist: Abscheiden, Ätzen, Aschen und Kühlen. Dieses System ist in der Lage, eine präzise Temperaturregelung zu gewährleisten und das optimale thermische Profil für jede einzelne Kammer beizubehalten. Die PECVD (plasma-enhanced chemical-vapor deposition) Einheit wird für den Abscheidungsprozess in APPLIED MATERIALS Producer SE verwendet. Dabei wird ein hochfrequenzgesteuertes Plasma verwendet, um eine gleichmäßige Materialschicht mit hoher Geschwindigkeit unter Verwendung des Elektronenbeschusses eines Gasgemisches im Vakuum abzuscheiden. Dazu können Materialien wie Siliziumnitrid, Siliziumdioxid, Low-K- oder High-K-Dielektrika gehören. In der Trockenätzkammer der Producer SE findet das Ätzen des Materials statt. Es ist für Hochdurchsatzanwendungen optimiert und nutzt ein induktiv gekoppeltes Plasma (ICP), das mit Hochleistungs-Hochfrequenz angesteuert wird. Dies ermöglicht einen präzisen und gleichmäßigen Ätzprozess mit minimalen Belastungseffekten und minimaler Partikelverschmutzung. Das Ätzverfahren kann auch die Verwendung eines 400W ICP-Ätzreaktors mit mehreren Schwellenwerten umfassen, um unterschiedliche Ätzprozesse an hochkomplexen 3D-Strukturen zu ermöglichen. Nach dem Abscheiden von verarbeiteten Materialien erfolgt der Aschevorgang in AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE. Dies beinhaltet die Hochtemperaturentfernung abgeschiedener Schichten und kann Temperaturen von bis zu 1000 ° C erreichen. Dies trägt dazu bei, saubere Folien und effizientes Nachwachsen dünner Folien für die Weiterverarbeitung zu gewährleisten. Schließlich ist die Kühlkammer der AMAT Producer SE darauf ausgelegt, den Wafer schnell, aber sorgfältig zu kühlen. Dieser Kühlschritt ist wichtig, da das thermische Profil des Wafers die Prozessergebnisse beeinflusst. Diese ist für maximale Kühlung in minimaler Zeit optimiert und soll Wärmebelastung reduzieren und Waferleistungen und Leistung erhöhen. Schließlich ist APPLIED MATERIALS Producer SE ein fortschrittlicher Halbleiterreaktor, der eine maximale Ätzrate, Gleichmäßigkeit und Flexibilität bietet. Die verbesserte Temperaturregelmaschine und die optimierte Abscheide-, Ätz-, Asche- und Kühlkammern bieten den maximalen Durchsatz für komplexe 3D-Strukturen bei gleichzeitiger Minimierung der Partikelverschmutzung und der Aufrechterhaltung von thermischen Profilen für optimale Leistung.