Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer XT #9208802 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Hersteller XT Reaktor ist eine fortschrittliche Plasma-verbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) Kammer entwickelt, um verbesserte Erträge, Kosteneinsparungen und Endproduktsicherheit zu bieten. Das PECVD-Verfahren erzeugt dünne, hochgleichmäßige Schichten aus dielektrischen und konformen Filmschichten in einer Reihe von Halbleiter- und optoelektronischen Materialien. AMAT Producer XT-Kammer bietet erhöhte Prozessfähigkeit mit seiner größeren Arbeitsfläche, höhere Quellleistungen und verbesserte Temperaturstabilität. ANWENDUNGSMATERIALIEN Hersteller XT-Kammer besteht aus einem Prozessduschkopf, einer angetriebenen Hubarmtür, einer kohlenwasserstofffreien Plasmaquelle und der Basisvakuumkammer. Eine HF-Heizung versorgt den Prozessduschkopf und ermöglicht den Aufdampfprozess mit höheren Quellleistungen für verbesserte PECVD-Folienqualität und Gleichmäßigkeit. Die kohlenwasserstofffreie Plasmaquelle ermöglicht höhere Abscheidungsraten bei verbesserter Dickengleichförmigkeit über einen größeren Bereich von Filmdicken. Die Basisvakuumkammer hat einen maximalen Druck von nur 1Torr (133Pa), was eine hervorragende Dünnschichtabscheidung bei reduzierten Temperaturen ermöglicht. In Bezug auf die Eigenschaften bietet der Produzent XT-Reaktor eine hervorragende Wafer-Gleichmäßigkeit über alle exponierten Oberflächen, eine schnelle Absetzrate von 1.400um/min und eine vollautomatisierte Wafer-Transfer- und Ladeausrüstung. Die Benutzeroberflächen sind intuitiv gestaltet und das System verfügt über eine breite Palette anpassbarer Parametereinstellungen, die den Anforderungen unterschiedlicher Prozessanforderungen entsprechen. Es wurde auch mit dem Ziel entworfen, die Ausbeute und den Durchsatz der Einheit zu maximieren, was eine höhere Produktivität und niedrigere Kosten pro Wafer bietet. Um die Qualität und Sicherheit des Prozesses zu gewährleisten, verfügt der AMAT/APPLIED MATERIALS Producer XT-Reaktor über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, darunter eine selbstjustierende Kühlmaschine, Notabschaltfunktionen und eine automatisierte Prozessüberwachung. Das Tool verfügt auch über eine umfassende Suite von Diagnosetools für eine effiziente Fehlerbehebung. Abschließend ist AMAT Producer XT ein fortschrittlicher PECVD-Reaktor, der die Effizienz, Sicherheit und Qualität bei der Abscheidung von Dünnschichtschichten verbessert. Seine breite Palette an Merkmalen und anpassbaren Parametern machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von Halbleiter- und optoelektronischen Materialien.