Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer #166757 zu verkaufen

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ID: 166757
Weinlese: 2001
System Some parts missing 2001 vintage.
AMAT APPLIED MATERIALS Reaktoren (Advanced Materials Atomic Layer Reactor System) sind eine fortgeschrittene Form der chemischen Dampfabscheidung (CVD) Reaktoren. Diese Systeme sind in der Lage, dünne Materialfilme auf molekularer Ebene zu erzeugen. Die von AMAT/APPLIED MATERIALS Reaktoren hergestellten Dünnschichten können zur Herstellung von Halbleiterbauelementen wie Transistoren, Dioden und Kondensatoren verwendet werden. Die Reaktoren bestehen aus zwei Hauptkomponenten: der Seitenwandquelle und der Plasmaquelle. Die Seitenwandquelle besteht aus zwei rostfreien Stahlrohrelementen, die ein Gasgemisch enthalten. Dieses Gemisch wird erhitzt und Ionen werden dann durch die röhrenförmigen Elemente in die Plasmaquelle beschleunigt. Die Plasmaquelle besteht aus einer CuNiTi-Kammer mit einer Reihe von Elektroden. Diese Elektroden sind entweder perforiert oder mit einer Reihe von Halslöchern versehen, die beim Ionisieren des Gasgemisches ein Plasmafeld erzeugen. AMAT-Reaktoren erreichen extrem hohe Temperaturen von bis zu 1200 ° C, was für die Aufrechterhaltung einer gleichmäßigen Wärmeverteilung in der Kammer wichtig ist. Diese gleichmäßige Wärmeverteilung sorgt für eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung auf den Wafern. Durch die hohen Temperaturen in diesen Reaktoren können auch Substrate hohen Konzentrationen von Reaktantgasen und Plasma ausgesetzt werden. Diese Kombination ermöglicht eine effizientere, schnellere und gleichmäßigere Beschichtung der Substrate mit dünnen Schichten, wodurch eine konstante und zuverlässige Leistung der Halbleiterbauelemente erreicht wird. Zur Abscheidung dünner Filme werden die Abscheidungsgasvorläufer und die Reaktantgase beide kontrolliert in die Kammer eingeleitet. Die beiden Gasgemische werden dann von den Elektroden aktiviert, die eine Reaktion auslösen und helfen, einen dünnen Film auf dem Wafer zu erzeugen. Der dünne Film wird dann nach Abkühlen mit einem Kühlmittel aus der Kammer entnommen, wobei ein bereitstehender und homogener Film bereitgestellt wird. Angewandte Materialien Reaktoren werden für die Herstellung von Halbleitern für moderne Elektronik und Rechnen immer wichtiger. Da die Halbleitertechnologie weiter fortschreitet und die Gerätegrößen kleiner werden, sind Dünnschichtabscheidungsfähigkeiten wie AMAT/APPLIED MATERIALS Reaktoren unerlässlich, um mit der Nachfrage Schritt zu halten.
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