Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293649500 zu verkaufen
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ID: 293649500
Wafergröße: 12"
12"
Application: Aluminum
Magnet, P/N: 0010-03485
Adapter, P/N: 0040-89818
Heater, P/N: 0010-27430.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II ist ein fortschrittlicher Reaktor für die physikalische Bedampfung (PVD), der für den Einsatz in der Mikroelektronik und in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Diese Kammer verbessert die aktuellen Endura II-Plattformen und ermöglicht durch ihre verbesserte Steuerung, Präzision und Effizienz die Schaffung von dünneren und kleineren Komponenten. AMAT PVD-Kammer für Endura II ist entworfen, um eine breite Palette von Abscheidungseigenschaften in einer dynamischen, anspruchsvollen Umgebung zu erreichen. Die robuste Kammer ist mit fortschrittlichen Komponenten und Kontrollen ausgestattet, die eine höhere Genauigkeit und Wiederholbarkeit während des Abscheideprozesses ermöglichen. Seine fortschrittlichen Vorwärts- und Rückkopplungssteuerungen, die mit der dynamischen Druckregelung im geschlossenen Kreislauf abgestimmt sind, ermöglichen eine schnelle Reaktion und einen stabilen Betrieb in einer Vielzahl von Anwendungsbedingungen. Die Kammer verfügt über Basisdrücke bis zu 1x10-7 Torr, mit zuverlässigen Quelldichtungen und einer heliumgefüllten Säulenkammerumhüllung, was zu außergewöhnlicher Leistung und robusten Metallverdampfungsprozessen führt. Die Kammer ist mit verschiedenen Quellen und Gashandhabungssystemen sowie einem automatisierten Quellhöhenversteller und hochkonfigurierbaren Wand- und Deckenheizungen ausgestattet. Dies ermöglicht eine präzise Kontrolle von Schichtdicke, Temperatur und Gleichmäßigkeit bei maximaler Konformität bei schwierigen Abscheidungsaufgaben. ANGEWANDTE MATERIALIEN PVD-Kammer für Endura II ermöglicht auch eine bessere Anpassung des Sputterprozesses. Seine ionenstrahlunterstützte Abscheidung und Ionenätzmodule fördern eine höhere Sputtergleichförmigkeit im Vergleich zu anderen Systemen, zusätzlich zu höheren Abscheidungsraten, besserer Oberflächendeckung und mehr Kontrolle über die physikalische Zusammensetzung und die elektrischen Eigenschaften des abgeschiedenen Materials. Die Kammer ist auch für die einfache Integration in bestehende Endura II-Produktionslinien sowie für die Skalierung aus Laboreinstellungen konzipiert. Die PVD-Kammer ist zuverlässig und hochproduktiv, mit zeitgetesteten Verdampfungsalgorithmen und fortschrittlichen Sputter-Abscheidungssystemen zur Batch-Prozessverbesserung. Insgesamt bietet die PVD-Kammer für Endura II eine höhere Kontrolle und Präzision in der Abscheideverarbeitung, was zu hochwertigeren mikroelektronischen Komponenten und einem effizienteren Produktionsprozess führt. Die kombinierten Merkmale, Präzisionselemente und fortschrittlichen Technologien ermöglichen es Unternehmen, die Genauigkeit und Geschwindigkeit ihrer Fertigungslinien zu erhöhen.
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