Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293664709 zu verkaufen

AMAT PVD-Kammer ist speziell für den Einsatz in der Endura II Reaktor Ausrüstung konzipiert. Diese Kammer ermöglicht einen einfachen Zugang zum gesamten Innenraum für maximale Effizienz und bietet eine Vielzahl von Substratgrößen. Es ist mit einer Ionendusche gebaut, die die Homogenität der Beleuchtung und die resultierende Filmgleichförmigkeit auf der Waferoberfläche verbessert. Das Design ermöglicht eine vertikale und horizontale Abscheidung, wodurch die Kammer für verschiedene Anwendungen sehr vielseitig einsetzbar ist. Ein robustes Abschreckmanagementsystem steuert die Kühlung und sorgt für eine gleichmäßige Filmdicke bei Abscheideprozessen. Die Einheit bietet Stabilität und Wiederholbarkeit in den vier PVD (Physical Vapor Deposition) Beschichtungsprozessen. Es verfügt über integrierte Sicherheitssysteme und der Pure Reactive Gas De-Ionizer (PRGD) sorgt für keine Gasverunreinigungen während der Abscheidung. Die Reaktionskammer ist ferner mit einer zweidimensionalen linearen Abtastbewegungsmaschine ausgestattet, die das Substrat für erhöhte Flächengleichförmigkeit bewegt. Die Kammer hat große Stützpfosten und Sockel, die die Genauigkeit der Substratpositionierung gewährleisten. Die Kammer ist in der Lage, die Dosierung und den Materialfluss auf dem Substrat genau zu kontrollieren und eine konsistente und vorhersehbare Abscheidungsrate zu gewährleisten. Das dreidimensionale automatisierte Bewegungswerkzeug erleichtert die Gleichmäßigkeit zwischen Losläufen. Das Asset bietet auch Flexibilität durch die Ergänzung von mehreren benutzerdefinierten Bewegungs- und Kühloptionen. Die Reaktionskammer kann für ein breites Anwendungsspektrum eingesetzt werden. Dazu gehören die Herstellung integrierter Schaltkreise, Verbindungen von Komponenten und Oberflächenbehandlungen wie Reinigung, Planarisierung und Oxidation. Es eignet sich für die Beschichtung einer breiten Palette von Materialien wie, Kupfer, Aluminium, Titan, Kobalt, Chrom, Palladium, und Glühen Wolfram, mit anspruchsvollen Techniken wie, Elektro-Abscheidung, reaktive Sputter Abscheidung, anodische Ätzung und Ionenbeschuss Deposition. Abschließend ist APPLIED MATERIALS PVD Chamber für das Endura II Reactor Modell eine robuste und zuverlässige Ausrüstung, die für präzise und schnelle Prozesse für eine Reihe von Anwendungen entwickelt wurde. Es ist ideal für Forschung und Entwicklung und erfüllt industrielle Anforderungen an Stabilität, Wiederholbarkeit, Zuverlässigkeit und hocheffiziente Abscheideprozesse.