Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Tungsten targets for Endura #293827058 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura PVD Reaktor ist eine hochmoderne physikalische Dampfabscheidung (PVD) Ausrüstung entwickelt, um qualitativ hochwertige Ergebnisse in einer Vielzahl von Abscheidungsanwendungen zu liefern. AMAT Endura PVD-System ist ein Single-Batch-Tool, das eine Kammer, HF-Quelle und Tiegel kombiniert, um eine schnelle, wiederholbare, thermisch stabile Schichtabscheidung zu ermöglichen. ANWENDUNGSMATERIALIEN Endura PVD-Einheit bietet eine vorteilhafte Reihe von Funktionen für die Hochleistungsschichtabscheidung, einschließlich dynamischer Maschinensteuerung, Plasmaleistungsmodulation, integrierter Prozesssteuerung und Vor- und Nachverarbeitungsoptionen. Endura PVD-Kammer ist eine Edelstahlkonstruktion mit einer mehrteiligen geschlossenen Volumenumgebung und einer integrierten Graphit-Suszeptorplatte. Die HF-Quelle umfasst ein modernes Breitband-Anpassungsnetz, hochmoderne frequenzabstimmbare Netzteile und eine induktiv gekoppelte Induktionsspule, um eine zuverlässige, wiederholbare und konsistente Stromversorgung zu gewährleisten. Der Tiegel ist für eine gleichmäßige thermische Verteilung und effiziente Wärmeübertragung ausgelegt, was hilft, eine überlegene thermische Stabilität bei Prozessen zu gewährleisten, auch bei höheren Temperaturen. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura PVD-Tool verfügt über eine voll programmierbare digitale Steuerung, komplette Prozesssteuerung und eingebaute Temperatursensoren. Diese Anlage wurde entwickelt, um Prozessparameter genau einzustellen, um die Ziel-Abscheidungsschicht zu erreichen, einen Vernebler, der den Dampfstrom zerstäubt und verdampfte Reaktandenmaterialien mit hoher Konsistenz liefert, und eine montierte Wärmekamera zur Überwachung der Substratheizung und -kühlung. Das AMAT Endura PVD-Modell verfügt über mehrere Vorläuferverfahren, einschließlich Entgasung, Reinigung, Reinigung und Aufwärmung. Darüber hinaus nutzt die Ausrüstung nach dem Prozess Optionen wie Abkühlung, Stasis Wartung und Flussstopp. Diese Merkmale stellen sicher, dass die kritischen Temperaturparameter des Prozesses während des gesamten Zyklus erreicht werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura PVD-System ist entworfen, um genau und präzise die gewünschten Schichtabscheidungseigenschaften für die Erzielung von Hochleistungsergebnissen in einer breiten Palette von Anwendungsspezialitäten zu liefern, einschließlich Halbleiter-, Anzeige- und Plattenlaufwerkindustrie für fortschrittliche Wafer- und Glasschichten. Das Gerät ist hochgradig konfigurierbar und benutzerfreundlich und somit eine ideale Wahl für Forschungs- und Fertigungsanwendungen.