Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS RTP #9103291 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS RTP ist eine hochmoderne Reaktortechnologie, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es steht für Rapid Thermal Processing (AMAT RTP), das verwendet wird, um das Wachstum von Halbleiterstrukturen zu beschleunigen. APPLIED MATERIALS RTP ist eine hoch kundenspezifische Technik, die Wachstumsraten für Silizium-Wafer und andere Substrate maximiert. RTP arbeitet durch schnelles Erwärmen und Kühlen eines Substrats auf bestimmte Temperaturen, auch als Temperaturprofile bekannt. Diese Profile sind auf Basis des gewünschten Halbleitermaterialwachstums für spezifische Bedürfnisse programmiert. Die Temperaturprofile in Kombination mit fortschrittlicher Gaschemie steuern die Zusammensetzung der Wachstumsschichten präzise. AMAT/APPLIED MATERIALS RTP vereint zwei Systeme, die thermische Steuerung und das Lastschlosssystem. Die thermische Steuereinheit ist die Maschine, die die Temperaturprofile des Substrats steuert. Da das Substrat erwärmt und gekühlt wird, werden verschiedene Gase, wie flüchtige Gase und inerte Gase, in vorbestimmten Niveaus eingeleitet, um die thermische Energieübertragung zu unterstützen. Diese Gase bieten auch zusätzliche Reaktionsstandortchemie und Geschwindigkeitskontrolle, um die thermische Verarbeitung zu verbessern. Das Endura 5500 Werkzeug beispielsweise kann für bestimmte Anwendungen Temperaturen von 1000 ° C erreichen. Das Ladegerät ist eine Vakuumkammer, die eine saubere Umgebung pflegt. Im Inneren hält ein Probenboot bis zu 4-6 Substrate. Um die gewünschten Temperaturprofile zu gewährleisten, wird das Boot vakuumversiegelt und mit Stickstoff beladen, um eine kontrollierte Atmosphäre zu schaffen. Bei der Evakuierung des Bootes wird innerhalb von Sekunden eine genaue Temperatur erreicht. Sobald das Boot beladen und die Temperaturprofile eingestellt sind, führt der Reaktor die Verarbeitung durch. Das Boot wird in ein Quarzrohr eingelegt, abgedichtet und auf das gewünschte Temperaturprofil erhitzt. Anschließend werden die reaktiven Gase eingeleitet und das erhitzte Gas um die Substrate zirkuliert. Das Ergebnis ist das genaue Wachstum der gewünschten Halbleiterschicht. Nach Beendigung des Prozesses werden die Substrate in die Kühlkammer transportiert und dort auf Raumtemperatur abgekühlt. Der gesamte Prozess ist hochpräzise und liefert extrem hochwertige Wucherungen. Das macht AMAT RTP zu einem zuverlässigen und präzisen Modell für das Wachstum moderner Halbleiterschaltungen.