Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS RTP #9225694 zu verkaufen

AMAT Reactor Technology Platform (AMAT/APPLIED MATERIALS RTP) ist die weltweit führende Plattform für die Prozessentwicklung und Produktion von technisch hergestellten Halbleitermaterialien. In der Halbleiterindustrie wird AMAT RTP verwendet, um die Miniaturisierung von Bauelementen zu steuern und die Prozessgeschwindigkeiten durch Reduzierung der Zykluszeiten in der Waferfertigung zu erhöhen. Es ist eine produktionsbereite Plattform, die kostengünstige, leistungsstarke, fortschrittliche Abscheideprozesse zur Entwicklung und Optimierung technischer Materialrezepte bei erhöhten Temperaturen und Druck integriert. Die Umgebung von APPLIED MATERIALS RTP Plattform ist wesentlich für die Herstellung der kritischen Waferelemente - wie Features und Kontakte - die von den modernen Halbleiterdesigns benötigt werden. RTP verfügt über eine erweiterte Abscheidekammer mit innovativen Technologien, die die Abscheidung von technischen Materialien mit verbesserter Eigenschaftenkontrolle ermöglichen. Diese Abscheidekammer verfügt über ein fortschrittliches Prozesskontroll- und Diagnosesystem, das in der Lage ist, Rezepturen bei erhöhten Temperaturen und Drücken schnell zu entwickeln sowie die Materialeigenschaften genau zu steuern. Es verfügt auch über eine präzise Temperaturregelung und eine präzise und genaue Kontrolle der Materialzusammensetzung. Das Prozessleitsystem ermöglicht darüber hinaus eine breite Palette konformer und nicht konformer konstruktiver Materialabscheidungsstrategien, die die Herstellung hochkomplexer Merkmale ermöglichen, die in modernen Halbleiterkonstruktionen verwendet werden. Die RTP-Plattform AMAT/APPLIED MATERIALS wurde auch entwickelt, um die Flexibilität für die Prozessentwicklung zu maximieren und eine effiziente Terminplanung, eine nachvollziehbare Produkthistorie und einen Produktzugriff über mehrere Geographien hinweg zu ermöglichen. Dies ermöglicht die Entwicklung komplexer Materialprodukte über eine Vielzahl von Prozessen hinweg und minimiert Ausfallzeiten. Es bietet auch die Möglichkeit, Daten zu analysieren und Produkte ohne Kompromisse Einheitlichkeit zu bewerten. Die Prozesskammer von AMAT RTP umfasst auch eine Vielzahl fortgeschrittener Inertgasinjektionssysteme wie ein Mehrstrom-Gasinjektor, N2- und H2-Erzeugungssysteme, Ozon- und Sauerstoffinjektion sowie aktive Stickstoffabwärtsbindung und Kristallrotationsfähigkeit. Mit diesen Merkmalen lassen sich Wafer-Herstellungsprozesse wie schnelle thermische Verarbeitung, niederdruckchemische Dampfabscheidung, schnelle Epitaxie und elektrochemische Abscheidung in derselben Umgebung durchführen. Diese Kammer ist ferner darauf ausgelegt, die Reaktionszonenleistung zu optimieren und eine hohe Temperaturstabilität während des Abscheidungsprozesses zu gewährleisten. Zusammenfassend ist APPLIED MATERIALS RTP eine fortschrittliche, produktionsfertige Plattform, die die besten modernen Technologien integriert, um kritische Funktionen zu produzieren, die in komplexen Halbleiterdesigns für die Miniaturisierung von Bauelementen und eine erhöhte Effizienz verwendet werden. Die Plattform kann zur Entwicklung von Rezepturen für technische Materialien bei erhöhten Temperaturen und Drücken verwendet werden und bietet eine präzise Kontrolle der Materialzusammensetzung und -eigenschaften sowie eine effiziente Planung der Prozesse. Es wurde entwickelt, um eine umfassende Umgebung zu schaffen, die eine effiziente und zuverlässige Produktion komplexer Materialprodukte über den gesamten Halbleiterprozess hinweg ermöglicht.