Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Smartweb SL-3L/800 #293745938 zu verkaufen
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ID: 293745938
Weinlese: 2018
Roll to roll coating system
(2) Chillers
Roughing pump system
Process and rewinding module
Media supply
Electrical cabinet
Cooling
Heating
Trolley
Cathode colling
Control PC
Console table
Scrubber
Coatings:
Materials / Mode
Metals: Copper, Gold, Silver, Aluminium, Molybdenum, Titanium / DC
Alloys: Ni/Cr 80/20 / DC
Dielectrics: ITO, AI:ZnO / DC
SiOx, AI2O3, TiO2 /MF
ZnO / DC, MF
System cooling water:
Inlet pressure: 4 to 6 bar
Outlet pressure: Pressure-less, Open drain
Consumption: Maximum 50 m³/h
Average consumption: Approximate 26 m³/h
Temperature (Inlet): Minimum 18°C, Maximum 22°C
Temperature rise: Maximum 6°C
Carbonate hardness: <6 to 8°
pH value: 8.5 to 10
particle size: Maximum 100 μm
Particle concentration: Maximum 10 parts/cm³
CO2-content: Maximum 15 mg/l
CI-content: Maximum 20 mg/l
Cathode cooling circuit:
Filling quantity: Approximate 1100 Liters
Carbonate hardness: <7°
pH value: 8.0 to 9
Particle size: <5 µm
Solved oxygen: Maximum 5 mg/l
Resistivity at + 25°C: >2 x 103 Ohm cm
Compressed air:
Pressure: 6 to 7 bar
Average consumption: Approximate 1 m³/h
Particle size: Maximum 5 µm
Particle concentration: Maximum 5 mg/m³
Oil-content: Maximum 5 mg/m³
Dew point: 2°C
Gases: Argon, Nitrogen, Oxygen, Argon/Oxygen 80/20
Pressure: 1, 2 bar
Purity: 99.995
Gas tubing: Stainless steel, Coupling
Winding:
Web speed: 0.5 to 20.0 m/min + 0.1% of nominal speed at the motor shaft
Unwind / Rewind: 60 to 600 N
Tension measuring rollers with analog load cell
Vacuum:
Ultimate pressure: <8 x 10^-7 mbar in sputtering compartments of process modules
Pump down time to ultimate pressure: 24 Hours
Pressure during sputtering: 1 to 9 x 10^-3 mbar
Pump down time to 6 x 10^-6 mbar: <60 minutes
Measured at a pressure: < 2x10^-3 mbar
Gas separation factor between sputter compartments and sputtering compartments:
>100: 1, only for maximum substrate thickness loaded
Electrical Services:
Voltage: 400 V +10/-10% 50 Hz, 3 Phase, TN-network with loadable PEN for 60 Hz
Connected load: 320 kVA
Average consumption: Approximate 240 kW
Short circuit current: Maximum 50 kA
Process coating:
Magnetron sputtering coating technology
One coated side
Substrate width: Maximum 820 mm
Coating area web width reduced: 10 mm
Coating width: Minimum: 300 mm, Maximum: 600 mm
Environment:
Temperature: Minimum 15°C, Maximum 35°C
Humidity: Maximum 90% at 20°C, Maximum 50% at 35°C
Maximum altitude of installation site: 1000 m above sea level
2018 vintage.
Der AMAT Smartweb SL-3L/800 Reaktor ist eine hochmoderne Dünnschichtabscheidung, die für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt wurde. Dieses ausgeklügelte Tool umfasst innovative Technologien, um ein hohes Maß an Gleichmäßigkeit, Prozesskontrolle und Produktivität der Folie zu erreichen. Der SL-3L/800 Reaktor ist Teil der Serie APPLIED MATERIALS Smartweb, bekannt für seine überlegene Leistung und Zuverlässigkeit bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen elektronischen Geräten. Kernstück des SL-3L/800 Reaktors ist seine fortschrittliche Kammerkonstruktion, die eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses ermöglicht. Der Reaktor ist mit einem Mehrzonen-Temperaturregelsystem ausgestattet, das eine Optimierung der Filmeigenschaften über die Substratoberfläche ermöglicht. Dieses Merkmal gewährleistet eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Konsistenz in der Foliendicke, die für die Leistung und Zuverlässigkeit von Halbleiterbauelementen entscheidend ist. Der SL-3L/800 Reaktor nutzt eine Hochdurchsatzkonfiguration, die die Abscheidung dünner Filme auf großen Chargengrößen von Substraten ermöglicht. Diese Fähigkeit erhöht die Produktivität und Wirtschaftlichkeit in der Halbleiterherstellung erheblich. Der Reaktor ist für verschiedene Substratgrößen, Formen und Materialien ausgelegt und bietet Flexibilität und Vielseitigkeit in Produktionsprozessen. Eines der Hauptmerkmale des SL-3L/800 Reaktors ist seine fortschrittliche Gasverteilereinheit, die eine präzise Steuerung des Gasstroms und der Durchmischung innerhalb der Kammer gewährleistet. Dieses Merkmal erhöht die Gleichmäßigkeit und Reinheit der abgeschiedenen Folien und trägt zur Gesamtqualität der Halbleiterbauelemente bei. Der Reaktor ist zudem mit einer ausgeklügelten Druckregelmaschine ausgestattet, die stabile Prozessbedingungen und verbesserte Folieneigenschaften ermöglicht. Der SL-3L/800 Reaktor ist in die AMAT/APPLIED MATERIALS proprietäre Smartweb Softwareplattform integriert, die umfassende Prozessüberwachungs- und Steuerungsfunktionen bietet. Die Software ermöglicht eine Echtzeit-Prozessoptimierung, Fehlererkennung und Datenanalyse und gewährleistet eine hohe Prozesswiederholbarkeit und -ausbeute. Die Smartweb-Plattform ermöglicht auch die Fernüberwachung und Steuerung des Reaktors, was die Betriebseffizienz erleichtert und Ausfallzeiten reduziert. Hinsichtlich der Abscheidbarkeit unterstützt der SL-3L/800 Reaktor eine breite Palette von Dünnschichtmaterialien, darunter Dielektrika, Metalle und Halbleiter. Der Reaktor ist in der Lage, Filme mit präziser Dicken- und Zusammensetzungssteuerung abzuscheiden, die für die Herstellung fortgeschrittener Halbleiterbauelemente von entscheidender Bedeutung sind. Ob Front-End-of-Line oder Back-End-of-Line-Anwendungen - der SL-3L/800 Reaktor bietet die Flexibilität und Leistung, die für modernste Halbleiterherstellungsprozesse erforderlich sind. Abschließend ist der AMAT Smartweb SL-3L/800 Reaktor ein hochmodernes Dünnschichtabscheidungswerkzeug, das Präzision, Produktivität und Zuverlässigkeit in der Halbleiterherstellung vereint. Mit seinem fortschrittlichen Kammerdesign, seinen hohen Durchsatzleistungen und der integrierten Softwareplattform bietet der SL-3L/800 Reaktor außergewöhnliche Leistung für die Herstellung von elektronischen Geräten der nächsten Generation. Dieser Reaktor stellt einen wichtigen technologischen Fortschritt in der Halbleiterindustrie dar und ermöglicht es Herstellern, die Anforderungen an sich entwickelnde Markttrends und Anwendungen zu erfüllen.
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