Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS T002-00360 #293655401 zu verkaufen

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360 ist ein computergesteuerter Plasmareaktor, der für CVD-Prozesse (Chemical Vapor Deposition) eingesetzt wird. Es wird verwendet, um verschiedene Materialien wie Silizium, Siliziumnitrid, Titan und Wolfram zu verdampfen, was zu einer Dünnschichtbeschichtung führt. AMAT T002-00360 verfügt über eine Gasgemischanlage, die auf die individuellen Prozessanforderungen zugeschnitten werden kann und Optionen zur direkten Wärme- oder direkten Plasmaerzeugung beinhaltet. ANGEWANDTE MATERIALIEN T002-00360 Reaktor ist entworfen, um ein homogenes Gasgemisch im gesamten Kammerraum zu liefern, um eine gleichmäßige Abscheidung zu gewährleisten. Dieser robuste, zuverlässige und einfach zu bedienende Reaktor kann konsistente und wiederholbare Dünnschichtablagerungen über große Wafersubstrate liefern. T002-00360 verfügt über ein computergesteuertes Druck- und Gasflussregelsystem für optimale und wiederholbare Prozessbedingungen. Es verwendet ein diffusionsartiges Gasverteilungsverfahren, um eine gleichmäßige Strömung des Dampfes über das Substrat zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360 kann auch mit einem Quarzrohr ausgestattet werden, durch das das Verdampfungsmaterial in das Plasma gegeben wird. Die robuste Bauweise der Einheit gewährleistet einen stabilen und konsistenten Prozess und die Flexibilität der Prozessparameter ermöglicht die Abscheidung unterschiedlichster Materialien. AMAT T002-00360 verfügt auch über eine laserinterferometrie-basierte Endpunktdetektionsmaschine (EPD), die verwendet wird, um das Ende des Abscheidungsprozesses genau zu erkennen und die Stöchiometrie des aufgebrachten Materials zu optimieren. Das EPD-Werkzeug dient auch zur Überwachung des Profils der abgeschiedenen Folien, um die gewünschte Abscheidegleichmäßigkeit zu gewährleisten. APPLIED MATERIALS T002-00360 eignet sich für alle Niedertemperatur-PECVD-, ALD- und CVD-Anwendungen. Es ist wichtig zu beachten, dass T002-00360 routinemäßige Wartung und Neukalibrierung erfordert, um konsistente und wiederholbare Ergebnisse über lange Laufzeiten zu gewährleisten. Die Verwendung von hochwertigen Materialien wird auch sicherstellen, dass die Abscheidungsschicht Gleichmäßigkeit und Leistung während der gesamten Lebensdauer der Einheit erhalten bleibt. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360 eine fortschrittliche, zuverlässige und zuverlässige Plasmaabscheidung, die für eine Vielzahl von CVD-Prozessen verwendet wird. Es bietet eine gleichmäßige Abdeckung über große Wafersubstrate und ist mit innovativen Technologien ausgestattet, um die Genauigkeit und Effizienz zu verbessern. Auch AMAT T002-00360 ist sehr flexibel und ermöglicht die Anpassung der Prozessparameter je nach Anwendung. Mit regelmäßiger Wartung und Rekalibrierung ist APPLIED MATERIALS T002-00360 eine ausgezeichnete Wahl für fortschrittliche CVD-Prozesse.