Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima HDP-CVD #9139463 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima HDP-CVD ist ein fortschrittlicher chemischer Dampfabscheidungsreaktor, der entwickelt wurde, um Kunden von Advanced Materials eine hochwertige Dünnschichtabscheidung zu ermöglichen. Ein wesentliches Merkmal dieses Reaktors ist seine High-Density Plasma (HDP) Fähigkeit. Die Konfiguration der HDP-Quelle ermöglicht eine gleichmäßige und gleichmäßige Plasmaanregung über das gesamte Substrat, wodurch gleichmäßige und fehlerfreie Dünnschichtschichten mit hervorragender Reproduzierbarkeit bereitgestellt werden. Weitere Merkmale, die AMAT Ultima HDP-CVD zu einer attraktiven Wahl für die Folienabscheidung machen, sind die automatisierte Prozessoptimierungsroutine, die eine präzise Steuerung der Prozessparameter bietet, und die hohe Kapazität der aktiven Plasmaversorgung, die eine stabile und robuste Plasmaanregung über eine breite Palette von Prozessgasen gewährleistet. Um Dünnschichtschichten abzuscheiden, verwendet APPLIED MATERIALS Ultima HDP-CVD eine Heißwandquelle und verwendet Hochfrequenz-Plasmaanregung. Dadurch entsteht ein homogenes Plasma, das eine anhaltende chemische Aktivität fördert, die für die Abscheidung qualitativ hochwertiger Dünnschichtschichten erforderlich ist. Im Gegensatz zu Kaltwandquellen benötigt der in Ultima HDP-CVD verwendete Warmwandtyp kein extern beheiztes Gehäuse, um gewünschte Temperaturen zu erreichen. Dies vereinfacht die Bedienung und spart Energie. Der Reaktor ist in der Lage, Dünnschichtmaterialien in einer Vielzahl von Konfigurationen herzustellen, einschließlich Einzel- bis Mehrschichten. Es ist auch auf einer industrietauglichen Roboterprozessplattform aufgebaut, die eine Präzisionstechnik der Abscheidungsumgebung ermöglicht. Dieses Design ermöglicht es Benutzern, den Abscheidungsprozess zu automatisieren, den Bedarf an Handarbeit zu reduzieren und den Durchsatz des Systems zu erhöhen. Das System ist so konzipiert, dass es vollständig in eine Fabrikumgebung integriert ist und einen effizienten Produktionsprozess mit minimalen Ausfallzeiten für die Wartung ermöglicht. Darüber hinaus bietet die Software erweiterte Sicherheitsfunktionen, um einen sicheren Betrieb während des gesamten Prozesses zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima HDP-CVD ist auch mit den meisten Versorgungsquellen kompatibel und kann in Verbindung mit einer Reihe von Substraten verwendet werden. Dies macht es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet, wie die Herstellung von integrierten Logik- und Speicherbauelementen, Nanostrukturen und optischen Dünnschichtbauelementen. Zusammenfassend ist AMAT Ultima HDP-CVD ein fortschrittlicher chemischer Abscheidungsreaktor, der eine hervorragende Abscheidungsqualität und Wiederholbarkeit bietet. Es verfügt über eine Heißwand-Plasmaquelle, die ein gleichmäßiges Plasma liefert und bei einer Reihe von Temperaturen arbeitet und eine breite Palette von Prozessen ermöglicht. Die automatisierten Prozessoptimierungsfunktionen und das integrierte Design ermöglichen zudem eine verbesserte Effizienz und geringere Wartungskosten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Ultima HDP-CVD ist eine attraktive Wahl für viele Anwendungen, einschließlich integrierter Logik- und Speicherbauelemente, Nanostruktur und Herstellung optischer Dünnschichtbauelemente.