Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9236849 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X ist eine hohe Temperatur, für die Präzisionsfilmbildung entworfene Ultrahochvakuumabsetzungsausrüstung. Dieses System verwendet eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle (ICP), um eine hochpräzise Dünnschichtabscheidung mehrerer Materialien auf Halbleitersubstraten sowie anderen Materialien zu ermöglichen. Dieses Gerät wurde entwickelt, um extrem präzise Dünnschichtdickenprofile zu erzielen, mit optionalem Laserinterferometer und Hochleistungs-Quarzkristallmonitor zur Steuerung der Filmdickenabscheidung. Der AMAT Ultima X Reaktor verfügt über eine computergesteuerte, abgedichtete Prozesskammer und ist mit einer Einquellen-Plasmaquelle und einer integrierten Abgasmaschine ausgestattet. Dieses Werkzeug verfügt über eine breite Palette einstellbarer Prozesstemperaturen von Raumtemperatur bis 1050 ° C und kann Abscheideraten bis 200 nm/min erreichen. Diese hohe Abscheiderate eignet sich besonders für Anwendungen wie Kupferbarriere/Liner-Anwendungen, die eine schnelle Abscheiderate erfordern. ANGEWANDTE MATERIALIEN Ultima X verfügt über eine Reihe von Zubehör und Funktionen, die verschiedene Gassteuerungssysteme umfassen, die verschiedene Gasströme und -drücke genau steuern können, sowie eine elektrodenlose angetriebene planare Quelle zur Abscheidung von Strukturen mit hohem Seitenverhältnis. Das Ultra-High Vacuum (UHV) Modell kann einen Basisdruck von 10-7 Torr zur präzisen Abscheidung von ultradünnen Schichten mit minimaler Kontamination bereitstellen. Ultima X enthält auch eine Vielzahl von CAD-Softwarepaketen (Computer Aided Design), mit denen Ablagerungsaufträge problemlos programmiert werden können. Neben geplanten Ablagerungsaufträgen können Anwender auch mit Ablagerungsaufträgen experimentieren und diese bei Bedarf feinjustieren. Sie können einzelne Wafer/Kammerebene Abscheidung oder mehrere Wafer/Kammerebene Abscheidung auf diesem Gerät laufen. AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima X ist eine ideale Wahl für die Dünnschichtabscheidung von Kupfer, Titan, Tantal, Graphit, Aluminium, Niob und Wolfram sowie anderen Materialien und ist ideal für F&E, High-End-Fertigung und Produktionssysteme. Mit seinem vielseitigen Design ist es eine kostengünstige Möglichkeit, komplexe Anforderungen an die Abscheidung zu erfüllen.