Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9249285 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9249285
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
HDP CVD System, 12"
(2) Load ports
FI Alignment: FI Alignment fixtures
Atmospheric robots: YASKAWA XU-RCM6841
Monitors: Chase type (Rack)
Slit valve:
(2) Parker AD276510A
(3) VAT A-728585
Transfer chamber robots: STD Reach dual blade robot (Clear Lid)
Chiller: SMC INC-498-011C
Chamber A:
TMP: SHIMADZU TMP-H3603LMC-A1
Gas ring: 36
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber B:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber D:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
Process Kit
RF Generator type:
(6) MKS Spectrum 11002
(3) MKS Spectrum 10513
Gas configurations:
Chamber A:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 Ar 1,000
Line 6 He 600
Line 7 H2 1,000
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 NF3 400
Line 11 NF3 5,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber B:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber D:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima X ist ein Reaktor, der zur Abscheidung von Materialschichten auf Wafern und anderen Substraten verwendet wird. Es wurde für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt und gilt als einer der zuverlässigsten, präzisesten und produktivsten Reaktoren, die es heute gibt. AMAT Ultima X Reaktor ist für eine breite Palette von Abscheidungsprozessen, wie chemische Dampfabscheidung (CVD), physikalische Dampfabscheidung (PVD), Atomschichtabscheidung (ALD) und mehr gebaut. Sein Design besteht aus einer beheizten, isolierten Kammer mit mehreren Heizstufen, um eine präzise Abscheidung der Materialien zu ermöglichen. Es verfügt über Kammern von zwei bis acht, je nach Prozessanforderungen, und jede Kammer ist mit einer Fördereinrichtung ausgestattet, die Temperatur, Druck und Gasdurchfluss für optimale Ergebnisse reguliert. ANGEWANDTE MATERIALIEN Ultima X bietet ein hohes Maß an Leistung und Zuverlässigkeit. Der hohe Temperaturgradient in Kombination mit seiner niedrigen thermischen Masse ermöglicht hohe Abscheideraten, die die Prozesszeiten um bis zu 40% reduzieren können. Sein fortschrittliches Design ermöglicht auch niedrige Temperatur Gleichmäßigkeit, niedrige thermische Drift und höhere Lebensdauer Leistung. Ultima X bietet auch optionale Clean-in-Place (CIP) - und Rapid Solution Transfer (RST) -Funktionen, um eine schnelle und effiziente Verarbeitung zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima X bietet auch ein fortschrittliches Steuerungssystem, um die Effizienz und Zuverlässigkeit der Einheit zu maximieren. Die integrierte Steuerungsmaschine ist für hohe Leistung und Flexibilität ausgelegt und ermöglicht es Benutzern, den Betrieb des Werkzeugs an die spezifischen Anforderungen jeder Anwendung anzupassen. Es umfasst Funktionen wie In-situ-Diagnose und Kalibrierung, Hochgeschwindigkeitssynchronisation, integrierte Gasströmung und Temperaturregelung und vieles mehr. Insgesamt ist AMAT Ultima X ein fortschrittlicher, zuverlässiger und Hochleistungsreaktor, der für Abscheidungsprozesse in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Mit seiner hohen Abscheidungsrate, der geringen thermischen Drift und der integrierten Steuerung ist es in der Lage, präzise, präzise und konsistente Ergebnisse auch für anspruchsvolle Prozesse zu liefern.
Es liegen noch keine Bewertungen vor