Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9255628 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima X ist eine ultrahochdichte Plasmaätztechnologie zur Herstellung komplexer Halbleiterbauelemente. Es handelt sich um einen induktiv gekoppelten Plasma- (ICP) -Reaktor, der elektromagnetische Felder nutzt, um Plasmen zu erzeugen, die aus energetischen Ionen und Radikalen bestehen, die beim Dünnschichtätzen verwendet werden können. Das Ätzen von Dünnschichtschichten, wie sie in nanoelektronischen Bauelementen vorliegen, ist entscheidend für die Beschleunigung des Datenspeicherprozesses bei der Herstellung von Nanodevices und anderen Halbleiterprodukten. AMAT Ultima X ist vielseitig einsetzbar, da es für alle Ätzchemien und Materialien performant ist. Die einzigartige Struktur des Reaktors besteht aus drei konzentrischen Zylindern, so dass sich die reaktiven Arten und chemischen Vorläufer schnell bewegen können, wodurch das Auftreten von Wärmeenergieabscheidung eliminiert wird. Dadurch wird die Ätzgleichförmigkeit über das Substrat stark verbessert. ANGEWANDTE MATERIALIEN Ultima X verwendet auch eine hochdichte Quelle mit Niederdruckbetrieb, die zu einem sehr effizienten Ätzprozess kombiniert. Dies wird erreicht, indem die zweimotorige Stromquelle verwendet wird, die sowohl die negativen Ionen als auch die Elektronen nutzt, um die Plasmaspezies effektiv zu ionisieren. Diese hochdichte Plasmaausrüstung bietet eine überlegene Ätzanisotropie gegenüber anderen Prozessen, wodurch die Verluste an Ätzseitenwand signifikant reduziert werden und höhere Auflösungsfunktionen ermöglicht werden. Ultima X verfügt auch über eine patentierte Gas-Liefertechnologie, die den Ätzprozess verbessert und gleichzeitig die Kontamination der reaktiven Spezies mindert. Diese Technologie verwendet fortschrittliche Computer-Software-Algorithmen, um den Druck zwischen den Ätzvorläufern und dem Substrat genau zu steuern und sicherzustellen, dass Plasmaspezies in idealen Mengen und mit minimaler Streuung am Substrat ankommen. AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima X verwendet auch ein modernes optisches Substratinspektionssystem (OSI), um qualitativ hochwertige Endprodukte sicherzustellen. Diese Einheit verwendet sichtbare und infrarote Lichtspektroskopie, um Siliziumverunreinigungen, Gateoxiddicke, Gateoxidschäden und Gateoxidversagen zu erkennen. Darüber hinaus ist die AMAT Ultima X OSI-Maschine gleichzeitig in der Lage, kritische Abmessungen des Ätzmusters zu messen, um eine hohe Ausbeute zu gewährleisten. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Ultima X ein funktionsreicher Ätzreaktor mit erweiterten Fähigkeiten. Die hochdichte Plasmaquelle, der Niederdruckbetrieb und die dynamische Gasförderung gepaart mit einer effizienten Endproduktinspektion sorgen für optimale Ätzleistung und Präzision. Ultima X wird in einer Vielzahl von Anwendungen wie der Entwicklung anspruchsvoller nanoelektronischer Geräte eingesetzt und ist ein äußerst zuverlässiges Ätzwerkzeug.