Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima #9190317 zu verkaufen

ID: 9190317
CVD System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima reactor ist ein fortschrittliches Plasmaätzsystem für Halbleiterbauelemente. Das System ist für eine leistungsstarke, kostengünstige Verarbeitung ausgelegt und ermöglicht das präzise Ätzen unterschiedlichster Materialien und Strukturen mit hohem Aspektverhältnis. Der AMAT Ultima Reaktor besteht aus einer Lastschloßkammer, einer Elektronenzyklotronresonanzquelle (ECR) und einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP). Die Lastschloßkammer ermöglicht das Einbringen von Wafern und die Vorreinigung des Wafers vor dem Ätzen. Die ECR-Quelle erzeugt ein starkes hochfrequentes elektromagnetisches Feld, das hochenergetische Elektronen erzeugt. Diese Elektronen interagieren mit dem Plasma, um ein hochgleichmäßiges und ionisiertes Plasma zu erzeugen. Die ICP-Quelle liefert dann dem Plasma zusätzliche Energie sowie Fasengas und ein Reaktantgas. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Ultima-Reaktor bietet Prozesswiederholbarkeit durch fortschrittliche Prozesssteuerungsalgorithmen und ist optimiert, um die Gasphasen- und Partikelphasenabscheidung zu reduzieren. Es erzeugt auch extrem kurze Kanten, die ideal für Strukturen mit hohem Seitenverhältnis sind. Darüber hinaus verfügt es über eine breite Palette von Prozessfähigkeiten wie Trockenätzen, physikalische Dampfabscheidung (PVD), Niedertemperatur-Polysilizium (LTPS) und Flüssigkristall-Display (LCD) -Prozesse. Ultima Reaktor ist für die Leistung mit anpassbaren Rezepten optimiert. Es ist unglaublich schnell, mit hohen Durchsatzraten, und es hat eine hohe Ätzrate und ausgezeichnete Abscheidungsselektivität. Seine Prozessflexibilität macht es für eine Vielzahl von Prozesskonfigurationen geeignet, einschließlich Einzelwafer, Clusterwerkzeuge und Multiätzer mit simultanen Prozessen. Es verfügt auch über ein einfach zu bedienendes Rezept-Bearbeitungswerkzeug, mit dem Benutzer Prozessparameter an eine bestimmte Anwendung anpassen können. AMAT/APPLIED MATERIALS Der Ultima-Reaktor ist ein hochentwickeltes Plasmaätz- und Abscheidungssystem mit präzisen Ätz- und Abscheidungsfähigkeiten, einer stark wiederholbaren Prozesssteuerung und eignet sich für eine breite Palette von Halbleiterprozessen. Seine hohe Effizienz, Flexibilität und fortschrittliche Technologie machen den AMAT Ultima Reaktor zu einer idealen Wahl für die Herstellung hochkomplexer Mikroelektronik.
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