Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima #9351211 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima
ID: 9351211
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
CVD System, 12" 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Der Ultima-Reaktor ist eine hochmoderne Vakuumabscheidung, die für den Einsatz auf Halbleiter- und anderen Halbleitersubstraten entwickelt wurde. Das System wurde entwickelt, um im Vergleich zu herkömmlichen Technologien einen überlegenen Durchsatz, Einheitlichkeit und Zuverlässigkeit zu bieten. Es eignet sich für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen, wie Photolithographie, Ätzen und Filmwachstum. Der Reaktor ist eine präzise Einzelhohlraumeinheit mit einem einzigartigen Waferquellendesign, mit einer horizontalen Geometrie, die über eine ganze Charge von Substraten in hohem Maße wiederholbar und gleichmäßig ist. Die Maschine verfügt auch über ein dreistrahliges optisches Überwachungswerkzeug, das eine Messung der Mikrowellenenergie ermöglicht, was möglicherweise die Erkennung von Stromfehlern letzter Meile ermöglicht. AMAT Ultima Reaktor ist in der Lage, physikalische Dampfabscheidung (PVD) mit Standard-Sputterquellen durchzuführen. Es können auch alternative Vakuumverfahren wie reaktives Sputtern, Verdampfen, Ionenplattieren und chemische Dampfabscheidung (CVD) durchgeführt werden, was eine größere Vielseitigkeit ermöglicht. Das Asset verfügt über erweiterte Prozessüberwachungsfunktionen sowie eine komplette Palette von Datenanalyse- und Berichtsfunktionen. Verschiedene in situ spektroskopische Diagnostika sind verfügbar, darunter optische Emissionsspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie, Röntgenphotoelektronenspektroskopie und Elektronenenergieverlustspektroskopie. Diese ermöglichen eine beispiellose Prozesskontrolle während der Abscheidung. Der Reaktor bietet zudem erweiterte Prozessautomatisierungsfunktionen, die einen effizienteren Mehrlaufbetrieb ermöglichen. Es beinhaltet eine automatisierte Prozessoptimierung für die schnelle Prozesseinrichtung und -optimierung sowie ein integriertes Messtechnik-Tool für die In-situ-Wafer-Charakterisierung. Seine Hochgeschwindigkeits-Bewegungs- und Wafer-Handhabungssysteme ermöglichen schnelle, wiederholbare Prozesse. Letztendlich bietet der Ultima-Reaktor ANGEWANDTE MATERIALIEN Anwendern eine zuverlässige, wiederholbare Prozessumgebung, die dazu dient, die Produktionskosten zu senken und die Erträge zu maximieren. Dank seiner integrierten Prozessfähigkeit, fortschrittlicher Prozessdiagnose und Automatisierung können Anwender einen hervorragenden Durchsatz, Einheitlichkeit und Zuverlässigkeit erzielen. Es bietet auch eine breite Palette von Funktionen, die auf die Bedürfnisse moderner Halbleiteranwendungen zugeschnitten sind.
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