Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS WxZ Chamber CVD Centura for P5000 #293648481 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS WxZ Chamber CVD Centura for P5000 ist ein einzigartiger CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für den Einsatz in integrierten Schaltkreisen (IC) entwickelt wurde. Dieses hochmoderne Gerät verfügt über mehrere Stationen (bis zu zwei) chemische Reaktionsheizgeräte, die eine außergewöhnlich gleichmäßige Filmabscheidung erzeugen und eine präzise Schichtdickenkontrolle und einen erhöhten Durchsatz ermöglichen. Die Reaktionskammer ist mit WxZ-Kammern ausgestattet, die eine hohe elektrostatisch gekoppelte Filmabscheiderate und eine überlegene Richtungsgleichförmigkeit aufweisen. Es bietet außerdem eine verbesserte Wärmeleitung über die Kammer, wodurch Hot Spots eliminiert werden und eine gleichmäßige thermische Gradientenabscheidung ermöglicht wird. Diese Ausrüstung bietet beeindruckende Substratbeladbarkeit mit einem oder zwei Transfermechanismen. Jeder Mechanismus bietet bis zu fünf individuelle Ladepositionen, die für eine optimale Vorstufengleichförmigkeit optimiert werden können. Die Belastbarkeit wird durch elektrostatisch gekoppeltes CVD weiter verbessert und ermöglicht eine breite Palette von Filmwachstumstechniken wie konformes CVD, Diffusionssteuerung und Oberflächensteuerungssysteme. Das System ermöglicht auch die Erstellung mehrerer Filmschichten. Das P5000 bietet eine hochauflösende Seheinheit, die die Genauigkeit beim Ausrichten von Substraten erhöht. Der duale Substratreinigungsarm bietet eine zusätzliche Reinigungsschicht, die die Zuverlässigkeit und Präzision bei der Produktion erhöht. Ein eingebauter Flächenmonitor analysiert die Zusammensetzung und Homogenität der Abscheidung. Die direkte Datenerfassungsfunktion des Controllers ermöglicht eine einfache Erfassung und Nachverfolgung von Daten. Darüber hinaus nutzt die P5000 eine fortschrittliche Temperaturkontrollmaschine, die beispiellose thermische Gleichmäßigkeit bietet. Die Software ist mit bis zu vier Gas Flow Profilen ausgestattet, die auf die gewünschte Anwendung zugeschnitten werden können. Der Einsatz von Leak-Proof Chamber CVD verbessert die Prozesssicherheit weiter. Durch die Verwendung von Niederdruckdynamikprozessen entfällt weiterhin der Bedarf an Vakuumpumpen, was Zeit und Geld bei nachgeschalteten Prozessvakuumkosten spart. Insgesamt bietet AMAT WxZ Chamber CVD Centura für P5000 Anwendern eine vielseitige und zuverlässige Ausrüstung für die IC-Herstellung. Sein hochmodernes Design, mehrere Substratreinigungsstufen und Temperaturkontrollwerkzeug, kombiniert mit seiner fortschrittlichen Software, machen diesen Reaktor zu einem Branchenführer in der CVD-Technologie.