Gebraucht AMAT Centura High-K #293616807 zu verkaufen

AMAT Centura High-K
Hersteller
AMAT
Modell
Centura High-K
ID: 293616807
CVD System.
AMAT Centura High-K ist eine Reaktorausrüstung, die speziell für die Herstellung von 300mm Wafern entwickelt wurde. Es handelt sich um eine Art Reaktionskammer, der Ätzgase zugeführt werden können, um nach der Implantation saubere Schritte durchzuführen. Das System ist so konzipiert, dass die Partikelbildung minimiert wird, indem ein Hochgeschwindigkeitsstrom bereitgestellt wird, der Partikel schnell entfernt, bevor sie sich auf der Oberfläche des Wafers absetzen können. Zu den bemerkenswerten Merkmalen von Centura High-K gehören eine Dual-Zone-Einspritzeinheit mit paralleler Strömung, akustische Fokussierung, chemische Reduzierung, thermische Management- und Prozesssteuerungsprogramme sowie effiziente Wärmerückgewinnungssysteme. Mit der Zweizonenmaschine können reaktive Gase mit hoher Genauigkeit und Geschwindigkeit in den Reaktionsraum eingespritzt werden. Dies reduziert den Zeitaufwand für den Abschluss des Prozesses und die Anzahl der Partikel, die die Wafer verunreinigen können. Die akustische Fokussierung ist ein weiteres wichtiges Merkmal von AMAT Centura High-K. Diese Technologie nutzt Schallwellen, um einen Kanal aus extrem fokussiertem Ätzgas zu erzeugen, der sich nach dem Verlassen der Reaktionskammer schnell ablöst. Dies hat den Vorteil, die Verunreinigungschancen deutlich zu reduzieren, da außerhalb der Reaktionskammer sehr wenig Gas vorhanden ist. Centura High-K bietet auch Optionen zur Chemikalienverminderung, um sicherzustellen, dass hohe Reinraumvorschriften eingehalten werden. Dieses Werkzeug verwendet eine Reihe von Filtern und Absorbern, um gefährliche chemische Emissionen aus der Reaktionskammer einzufangen und zu reinigen. Darüber hinaus verfügt es über thermische Management- und Steuerungsfunktionen, die eine präzise Temperaturregelung für wiederholbare Ergebnisse ermöglichen. Schließlich verfügt AMAT Centura High-K über effiziente Wärmerückgewinnungssysteme, die Energie aus dem Prozess gewinnen und zur Senkung der Gesamtbetriebskosten verwenden. Dies hilft, die Leistung der Geräte zu erhöhen und mögliche Auswirkungen auf die Umwelt zu reduzieren. Insgesamt ist Centura High-K eine ausgezeichnete und zuverlässige Reaktoranlage für die Herstellung von 300mm Wafern. Es bietet viele erweiterte Funktionen wie akustische Fokussierung, chemische Verringerung, thermisches Management und Steuerungsfunktionen und effiziente Wärmerückgewinnungssysteme. Alle diese Merkmale kommen zusammen, um eine ausgezeichnete Prozesserfahrung zu bieten und die Kontamination des Wafers zu minimieren.
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