Gebraucht APPLIED MATERIALS Centura 5200 #174265 zu verkaufen

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ID: 174265
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
WxP system, 8" Includes: Centura Main Frame System Controller/AC Power Box Process: Etch Back (W.EB) System Power Rating: 208 VAC 3-Phase Loading Configuration: Wide Body Load Lock Chamber Robot Type: HP Robot wafer handling assembly CRT Monitor and Monitor Base with light Pen x2 RF Generator Rack x1 (ENI OEM-12B3-03) (4) Nabtesco Dry Pump (EV4002) (2) Toyota Dry Pump (EC100L) (2) Dikin Chiller (UBRP2AMPE ) SMC Chiller (INR-498-012D-X012) Showa Denko Scrubber Chamber Configuration: Load Lock Chamber A Load Lock Chamber B Transfer Chamber Chm Position A: Centura WxP Chamber Chm Position B: Centura WxP Chamber Chm Position C: Centura WxP Chamber Chm Position D: Centura WxP Chamber Chm Position E: Empty Chm Position F: Orienter Chamber De-installed and crated 1997 vintage.
ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 ist ein fortschrittliches Plasmaätzgerät auf Transistorebene, das eine breite Palette von Vorteilen für Benutzer bietet. Dieses Gerät ist ein spezialisiertes Werkzeug für die Herstellung, Verpackung und Prüfung von hochmodernen Halbleiterchips und Komponenten. Es ist zuverlässig, effizient und eine kostengünstige Ätzlösung. Centura 5200 verfügt über eine leistungsstarke, induktiv gekoppelte Plasmaquelle. Diese Quelle ist in der Lage, extrem große Mengen an ionisierten Hydronium-Ionen bei hohen Temperaturen zu produzieren, wodurch hohe Ätzraten zeitweise bis zu 5 Nanosekunden möglich sind. Das Verfahren verwendet Hochfrequenzleistung und ein reaktives Material, in der Regel ein Gas, um die Oberfläche des Siliziums zu oxidieren, um winzige Gräben und Tunnel zu erzeugen. APPLIED MATERIALS Centura 5200 folgt dem branchenüblichen Multi-View Design (MVD) und bietet Anwendern unübertroffene Präzision und Genauigkeit. Es verwendet auch Parallel-Sensor-Technologie, die eine bessere Sicht auf das Substrat bietet, so dass Benutzer schnell alle Schwächen erkennen können, die Prozesserträge begrenzen können. Centura 5200 ist ein vollautomatisches Ätzsystem. Die Konstruktion und Konstruktion des Geräts wurden auf die Minimierung der Gefahr einer Produktkontamination zugeschnitten. Funktionen wie eine fortschrittliche Silikon-Bahnreinigungsmaschine und automatisiertes Be- und Entladen von Endeffektoren sorgen dafür, dass Benutzer nur minimale manuelle Eingriffe benötigen, um ein qualitativ hochwertiges, kontaminationsfreies Produkt zu gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 ist für überlegene Zuverlässigkeit ausgelegt. Sein hochpräzises PFI (Portable Film Implant) -Werkzeug sorgt dafür, dass verdampftes Material konstant verteilt und einheitlich ist und hilft, die Prozesskontrolle und die Ausbeute zu optimieren. Darüber hinaus können Anwender mit dem integrierten Ionentor schnell und einfach die Prozessflexibilität verbessern. Centura 5200 ist ein voll ausgestattetes Ätzinstrument, das den Benutzern beispiellose Vorteile bringt. Dieses Gerät ist einfach in bestehende Produktionslinien integriert und bietet eine effiziente und kostengünstige Ätzlösung. Sein zuverlässiges und genaues Design, fortschrittliche Automatisierung und überlegene Prozesskontrolle machen es zu einer der besten Ätzlösungen auf dem Markt heute.
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