Gebraucht APPLIED MATERIALS Centura HDP CVD #100063 zu verkaufen

ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura HDP CVD ist eine fortschrittliche CVD-Ausrüstung (Chemical Vapor Deposition), die für fortschrittliche mikroelektronische und nanotechnologische Verarbeitungsanwendungen entwickelt wurde. Das System wurde entwickelt, um im Vergleich zu älteren CVD-Systemen eine verbesserte Leistung, höhere Flexibilität und verbesserte Einheitlichkeit zu bieten. Das Gerät ist mit einem Quarzrohr und zwei beheizten Suszeptoren, einem unteren und einem oberen, sowie einer Gasfördermaschine ausgestattet. Das Quarzrohr ist eine einseitige Druckkammer und umfasst das Quarzrohr, seine oberen und unteren Flansche und Dichtungen, eine Lumendurchführung und Niveauregulierer. Die Suszeptoren werden durch Infrarotlampen erhitzt, was zu einer schnellen Erwärmung und Abkühlung des abzuscheidenden Substrats führt; es erzeugt auch ein gleichmäßiges thermisches Feld über die Substratoberfläche. Das Gasförderwerkzeug auf Centura HDP CVD besteht aus einem Gasdurchflussmesser, einem Ablaufventil, einer Gummituch- und Bypassventile. Der Gasdurchflussmesser ermöglicht eine genaue Messung der Gaszufuhrmengen aus den einzelnen Gasflaschen. Das Ablaufventil hilft bei der Steuerung des Gasstroms von den Gasquellen zum Gut. Die Gummituchgaszufuhr ermöglicht die Zufuhr einer kumulativen Inertgasdecke über das Substrat. Die Bypassventile dienen zur Entleerung der Kammer des Modells bei einer Störung. Das Gerät ist ferner mit einer Vakuumpumpe und Sicherheitsventilen, Manometer und Thermoelementsensoren ausgestattet, um das Vakuum- bzw. Temperaturniveau innerhalb der Kammer zu überwachen und zu messen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Das Centura HDP CVD-System verfügt auch über eine leistungsstarke Controller-Software, mit der Benutzer die verschiedenen Prozessparameter programmieren können, um verschiedene Filmqualitäten und Gleichmäßigkeitsstufen zu erzeugen. Die Software kann auch verwendet werden, um die Prozessrezepte und -einstellungen zu speichern, zu analysieren und neu zu erstellen. Das Gerät sorgt für einen hohen Durchsatz mit schnellen Abscheideraten und Gleichmäßigkeit bei gleichzeitiger Qualitätskontrolle der abgeschiedenen Folie. Es kann verwendet werden, um Metall und andere metallbasierte Folien wie Aluminium, Kupfer und Titan sowie eine Vielzahl von dielektrischen Filmen und Oxiden abzuscheiden. Die Maschine ist auch in der Lage, mit verschiedenen Prozessen wie ALD (Atomic Layer Deposition) und konformer Abscheidung zu arbeiten. Centura HDP CVD-Tool bietet eine zuverlässige und optimierte CVD-Erfahrung, die für die Fertigungsindustrie sehr zugänglich ist. Es ist in der Lage, eine hochwertige Abscheidung mit verbesserter Gleichmäßigkeit und Reinheit herzustellen, die für den Erfolg der neuesten Halbleiter- und Nanotechnologie-Produkte entscheidend ist.