Gebraucht APPLIED MATERIALS Centura MxP #130910 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 130910
PECVD SiO2 / SiON / SiO2 system
3 chambers: (2) Poly, (1) Oxide
Power: 208VAC, 3ø, 50/60Hz
ENI-OEM-12BX3
Eabara A30W X2
Ebara AA70W
Ebara A70W X2
Gases : Ch A-He, N2,SiH4, CF4, N2O
Ch B-He, N2,SiH4, CF4, NF3, NH3, N2O
Ch C-He, N2,SiH4, CF4, N2O
Process Kits
Clamp chucks
EPD
Turbos
Dry pumps (Edwards IL/IH600)
(Qty 3) RF Gen ENI OEM-12B
HE
Neslab chiller
Rear monitor
All cables
Software: English
De-installed Q1 2010
2000 vintage.
ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura MxP Reaktor ist eine leistungsstarke, großtechnische Ausrüstung, die eine kostengünstige Produktion von Massenprodukten und Waferkonstruktionen ermöglicht. Das System ist mit einer Vielzahl von Technologien ausgestattet, um maximale Effizienz und Kompatibilität mit den anspruchsvollsten Herstellungsprozessen zu gewährleisten. Der Reaktor integriert mehrere Elemente, darunter eine großflächige Kammer, eine thermisch homogene Abscheideeinheit und eine automatisierte Plasmaquelle, zur präzisen und effizienten Verarbeitung empfindlicher Substrate. Die Maschine bietet eine hohe Prozessflexibilität, so dass der Anwender sowohl positive als auch negative Polaritätsgeräte sowie kleine und große Substrate gleichzeitig verarbeiten kann. Der Reaktor bietet auch eine hochpräzise Regelung von Temperatur und Druck, so dass die genaue Abscheidung von mehreren Schichten mit einem einzigen Betrieb. Das Werkzeug ist optimiert für die Produktion fortschrittlicher Hochleistungsgeräte und die Verarbeitung von Wafer-Füllstandspaketen. Die Anlage eignet sich auch für allgemeine thermische Verdampfungs- und Photoresistbeschichtungsprozesse. Centura MxP-Reaktor mit einem optimierten Kammerdesign verfügt über eine hohe Durchsatzrate, verbesserte Prozesskontrolle und Homogenität und minimierte thermische Reaktivität zur Verbesserung der Geräteproduktionsausbeute. Die integrierte Plasmaquelle ist so ausgelegt, dass sie die Abscheidung mehrerer Schichten auf demselben Substrat ermöglicht. Das Modell verfügt auch über eine großflächige Kammer, die eine überlegene thermische Homogenität und Gleichmäßigkeit für eine effiziente Verarbeitung bietet. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura MxP-Reaktor bietet eine effiziente und zuverlässige Prozesssteuerung mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen wie Mehrkammer-Steuerungs- und Überwachungstechniken, einschließlich Gasmessung und Atmosphärenkontrolle. Das integrierte Ethernet/IP-Protokoll gewährleistet die Kapazität zum Übertragen von Daten und erhöht die Verarbeitungsgeschwindigkeit. Die Ausrüstung verfügt auch über erweiterte Sicherheitsfunktionen, um die Arbeiter vor gefährlichen Prozessen zu schützen. Insgesamt ist der Centura MxP Reaktor ein fortschrittliches Hochleistungssystem, das für die effiziente und kostengünstige Herstellung von Massenprodukten und Waferstrukturen entwickelt wurde. Die integrierten Technologien und das fortschrittliche Design sorgen für maximale Effizienz und Qualität und sind somit die ideale Wahl für die Großproduktion von Halbleiterbauelementen.
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