Gebraucht APPLIED MATERIALS Endura 5500 #194192 zu verkaufen

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ID: 194192
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2004
6" PVD System Chambers: (2) standard (1) wide body Chamber 1 STD-Ta(CLAMP), DURA Magnet Chamber 2 Wide-TaSi(CLAMP0, DURA Magnet Chamber 3 STD-AlCu(CLAMP), A Magnet Chamber A: PCⅠ(Pedestal) Installed 2004 vintage.
ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 5500 ist ein hochmoderner High-End-Reaktor, der für fortschrittliche Halbleiterprozesstechnologie entwickelt wurde. Entwickelt von APPLIED MATERIALS, bietet dieses Gerät eine Plattform für die Einzelwaferbearbeitung mit entweder einem induktiv gekoppelten Plasma oder einem entfernten Plasma für eine Vielzahl von Halbleiterprozessanwendungen, einschließlich Metall-Aluminiumlegierung, Siliziumoxid/Nitrid-Ätz-, Video- und dielektrische Abscheidung und chemisch-mechanische Planarisierung. Endura 5500 Reaktor ist mit einer Reihe von beispielhaften Eigenschaften, die es zu einem der fortschrittlichsten Systeme auf dem Markt heute. Es ist mit einer modularen Architektur und einer hochflexiblen Prozesskammer ausgestattet, die die Verarbeitung einzelner Wafer mit hohem Durchsatz ermöglicht. Darüber hinaus verfügt es über ein 6-Achsen-Robotersystem, das in einer automatisierten Kassetten-zu-Kassetten-Zelle untergebracht ist und eine präzise Waferübertragung und Rezept-Ausführung ermöglicht. Das Gerät ist auch in der Lage, eine breite Palette von Prozessbedingungen durch umfassende Gas- und Energiezufuhrmechanismen und Feedback-Steuerung zu bieten. Darüber hinaus ist der Endura 5500 Reaktor mit mehreren Funktionen ausgestattet, die hochwertige und zuverlässige Prozessergebnisse gewährleisten. Die Maschine ist mit einem in-situ, all-reflektierenden optischen Bildanschluss ausgelegt, der ein Hochleistungsmikroskop verwendet, um Wafer während des Vor- und Nachverfahrens auf Defekte zu untersuchen. Es enthält auch einen leistungsstarken Wafer-Handhabungsmechanismus, der eine präzise Steuerung von Parametern wie Heizung, Kühlung und Druck ermöglicht, um die Prozessgenauigkeit zu maximieren. Für maximale Effizienz und einfache Bedienung verfügt der Endura 5500 Reaktor über eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche (GUI). Diese intuitive Benutzeroberfläche vereinfacht die Interaktion mit dem Tool und ermöglicht es dem Bediener, Prozesse einfach zu überwachen, zu steuern und zu optimieren. Darüber hinaus wurde die Anlage entwickelt, um die Wartung von Werkzeugen zu erleichtern, mit Quick-Release-Komponenten und Zugriffsanschlüssen für eine einfache Werkzeugwartung. Insgesamt ist der Endura 5500 Reaktor ein unverzichtbares Modell für jedes Halbleiterlabor. Es integriert eine Reihe innovativer Funktionen, die es Anwendern ermöglichen, überlegene Qualität, Zuverlässigkeit und Durchsatz zu erhalten. Speziell für die Prozessoptimierung konzipiert, gewährleistet die Anlage eine präzise Prozesssteuerung, so dass Ingenieure zuverlässig gewünschte Prozessergebnisse für jede Halbleiteranwendung erzielen können.
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