Gebraucht APPLIED MATERIALS P 5000 Mark II #67130 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 67130
Metal etch system, 6"
Configuration details:
Precision 5000 Mark II MxP Etch system 6”
Mark II mainframe containing load lock chamber
Cassette to cassette wafer handling
VME system controller with hard disk and floppy disk storage
28 line compatible on-board gas panel
Bolt down load lock chamber lid and load lock purge system
Microprocessor controller including CRT display, self diagnostics, host computer interface via RS232 port SECS II protocol
Standard floppy and hard disc (170NMB) storage
Etch chambers include:
Temperature controlled pedestal
Magnet modules and cylinder lift mechanisms
Slit valve, gas distribution components
RF isolator, RF match
Capacitance manometer, throttle valve
Independent helium cooling
Integrated end point detector
Remote package including pumps, RF power supplies, heat exchanger, NESLAB recirculator, main AC box and other facilities
Fifty foot remote package cable length
Features:
(2) metal etch chambers and one strip chamber system
Chamber A: 6” clamped metal etch process kit
Chamber B: 6” clamped metal etch process kit
Chamber C & D: 6” advanced strip and passivation chamber
Including 1200 Watt generator process kit, hardware gas distribution plate and MFC controller gas line per chamber
6” metal etch process kit with:
AL etch ceramic fingered basic kit 0240-31587E
0.95” fingered ceramic focus ring 0240-09757E
Tapered head SiC DC Pick-ups 0240-31359
Unilid gas distribution plate - 119holes 0020-32259
6” advanced strip and passivation chamber process kit basket style wafer support
Gas panel A&B: BCL3, Cl2, CF4, N2, SF6 / C: O2, N2, H2O
Through the wall system
Heat Exchanger AMAT 1 and Heat Exchanger AMAT0
(1) NESLAB HX150 is missing
(1) etch chamber is leaking glycol (can be repaired but it is better to change the body chamber)
Second chamber has been repaired for the same problem
Machine was in production until Q3 2009
Currently installed in fab
Gases are purged and the machine is powered off
Can be inspected and powered on to see software only
Spare parts available, list is shown in photos
1998 vintage.
ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 Mark II ist ein hochleistungsfähiger konfigurierbarer Parallelverarbeitungsreaktor, der für den mehrstufigen Abscheidungsprozess unterschiedlichster Materialien ausgelegt ist. Es ist die fortschrittlichste Ablagerungsausrüstung auf dem Markt und bietet unübertroffene Prozessflexibilität und Überwachungsfunktionen. ANWENDUNGSMATERIALIEN P5000 MARK II ist ein Hochvolumenproduktionsreaktor, der Kammern bis zu einer Größe von 5,5 x 4,0 Metern aufnehmen kann, wodurch bis zu 20 gleichzeitige Kammern und ein Gesamtdurchsatz von über 8.400 Wafern pro Stunde entstehen. Es ist in der Lage, eine Reihe von Wafergrößen von 75mm bis 300mm genau zu verarbeiten und in der Lage, eine Vielzahl von In-situ-Diagnosen, Qualitätssicherungsprüfungen und elektrische Charakterisierung in einer einzigen Reaktorkammer durchzuführen. Das System bietet eine branchenführende Ebene der Prozesskontrolle und Einheitlichkeit mit Funktionen wie automatisierte Dosissteuerung, Kammerzyklus, Ergebnisberichterstattung, parametrische Optimierung sowie Fehlererkennung und -prävention. P 5000-MARK II verfügt auch über einen erweiterten austauschbaren Sockel für schnelle Prozesswartung und Werkzeugwechsel. Seine Waferkassetten und Hochleistungs-Gasfördereinheit sorgen für konsistente Prozesswiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit. Eine integrierte Vakuummaschine mit mehreren Vakuumpumpen und Abgasanschlüssen bietet einen zuverlässigen Betrieb und minimiert jede Prozessleckage. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 MARK II ist speziell für die Herstellung von fortschrittlichen Halbleitermaterialien, einschließlich Siliciumcarbid, Galliumnitrid, Kupfer-Indiumgalliumdiselenid und mehr, entwickelt. Es ist in der Lage, eine Reihe von Abscheidungsprozessen durchzuführen, einschließlich Radialplasma, Sputtern, Lichtexposition und Atomschichtabscheidung (ALD). Die HMI-Software bietet eine grafische Überwachung und Trendanalyse aller Kammerparameter sowie eine Vollsprühanalyse und -optimierung. P 5000 MARK II ist die perfekte Wahl für einen zuverlässigen Prozessreaktor mit hohem Durchsatz und höchster Präzision und Flexibilität. Mit seinem ausgeklügelten und integrierten HMI bietet es eine kostengünstige Lösung, um die anspruchsvollsten Produktionsanforderungen zu erfüllen. Seine zuverlässige, konsistente und automatisierte Prozesswiederholbarkeit garantiert höchste Erträge, Qualität und Durchsatz.
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