Gebraucht APPLIED MATERIALS P 5000 #129972 zu verkaufen

APPLIED MATERIALS P 5000 ist ein hochmoderner Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor mit verbessertem Durchsatz, verbesserter Geräteleistung und überlegener Wiederholbarkeit über Produktionsläufe hinweg, was letztendlich zu überlegener Gerätequalität führt. Die Geräte bieten eine schnelle, wiederholbare und präzise Produktverarbeitungszeit und können leicht von kleinen bis großen Substratgrößen skaliert werden. APPLIED MATERIALS P5000 wurde entwickelt, um sowohl in F&E- als auch in Produktionsumgebungen zu arbeiten. Zu den Hauptkomponenten des Systems gehören Kammer, Grundrahmen, Netzteile und Prozesssteuerung. Innerhalb der Kammer liefern die Quell- und Vakuumpumpen Prozessgas und entfernen Nebenprodukte. Die Stromversorgungen ermöglichen die Steuerung der verschiedenen PECVD-Prozessparameter wie Prozessgase, HF-Leistung und Druck. Die Prozesssteuerung speichert das Prozessrezept und ist für die Koordination aller verschiedenen Parameter während eines Abscheideprozesses verantwortlich. Die Kammer der P-5000 ist mit einer HF-Elektrode und einem Spannfutter ausgestattet, um das Substrat während des Abscheidungsprozesses zu halten. Die HF-Leistung wird von den Stromversorgungen gesteuert und die Spannfuttertemperatur durch eine präzise Temperaturregeleinheit gehalten. Verschiedene Prozessgase können einzeln oder als Gemische zugeführt werden, die auf Basis des abzuscheidenden Halbleitermaterials bestimmt werden. Der Druck innerhalb der Kammer wird durch eine Turbomolekularpumpe gesteuert, die eine genaue Konzentration der Prozessgase gewährleistet. Sobald eine Abscheidungsrezeptur vom Bediener eingegeben wird, ist der Prozessregler für die Verwaltung der verschiedenen Parameter verantwortlich, um die Wiederholbarkeit im Abscheidungsprozess zu gewährleisten. Der Druck und die Strömung des Prozessgases werden kontinuierlich überwacht und eingestellt, um sicherzustellen, dass die beste Materialschicht abgeschieden wird. Die HF-Leistung, die Futtertemperatur und der Druck werden ebenfalls überwacht und angepasst, um die Gleichmäßigkeit des Geräts sicherzustellen. Mit P5000 können Kunden fortschrittliche Materialien wie Siliziumnitrid, oxidiertes Silizium und Siliziumkarbid mit überlegener Wiederholbarkeit ablagern. Diese Maschine bietet auch eine integrierte Ätzlösung, die in der Lage ist, unerwünschtes Material zu entfernen oder das abgeschiedene Material zu strukturieren. APPLIED MATERIALS P-5000 ist ideal für fortgeschrittene Halbleitermaterialien und kann bei der Herstellung verschiedener elektronischer Geräte verwendet werden. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, hohem Durchsatz und wiederholbaren Ergebnissen ist P 5000 ein unschätzbares Werkzeug für die Industrie- und Forschungseinrichtungen, die nach High-End-Leistung suchen.