Gebraucht APPLIED MATERIALS P 5000 #163402 zu verkaufen

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Hersteller
APPLIED MATERIALS
Modell
P 5000
ID: 163402
Wafergröße: 8"
PECVD system, 8" Configuration: (4) CVD chambers Process gases: Silane, Ammonia, Nitrous Oxide, Nitrogen Trifluoride Precision 5000 Mark II Mainframe Precision 5000 Software Version 5.03 (Year 2000 Compliant) SECS Communication Port Laminar flow mini-environment behind input/output window Mark II ZA (zero adjust) actuators and gates for process chambers Process chamber configured for ceramic chuck operation 15 slot storage elevator for faster run rates eDOC remote system for combustion of un-reacted silane Nitride thin film configured (no hotbox) Heat exchanger Remote frame with remote AC power box (1) High frequency RF generator per chamber on remote frame (4) BOC-Edwards iQDP40/iQMB250 pumps/blowers for dep chambers BOC-Edwards iQDP80 pump for loadlock Ergonomic Cassette Load/Unload Excursion Prevention (EP) software ready Currently crated.
ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist ein spezialisierter chemischer Aufdampfreaktor (CVD), der für die kommerzielle Herstellung von elektronischen und Halbleitermaterialien verwendet wird. Insbesondere wird APPLIED MATERIALS P5000 zur Herstellung von polykristallinem Silizium, Polysilizium TFT (Thin Film Transistor), Polysilizium Gate und Poly-SiON (Polysilizium Oxid Nitrid) Materialien verwendet. Dieses Mehrzwecksystem arbeitet, indem es chemische Vorläufer in einer Vakuumkammer zerlegt, um einen Film oder eine Materialschicht auf einem Substrat zu bilden. Dieses Abscheidungsverfahren ist als chemische Dampfabscheidung bekannt und erfordert hohe Temperaturen und eine präzise Druckregelung. P-5000 Reaktor bietet die hohe Kontrolle und Präzision, die für zuverlässige und effiziente Produktionsabläufe erforderlich sind. Sein fortschrittlicher Aufbau umfasst eine separate Abgabekammer, in der die Vorläufereinspeisungen, Reaktanden und Inertgase beladen werden, und eine Reaktionskammer, in der die Abscheidung stattfindet. P 5000 Reaktor verfügt auch über eine breite Palette von Prozessparametern wie Temperatur, Druck und Sauerstoffdurchfluss, die alle eingestellt werden können, um eine konsistente und gleichmäßige Filmabscheidung zu gewährleisten. Das Herzstück von APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ist seine Hochleistungsheizung, die einen Bereich von Prozesstemperaturen zwischen 400 ° C und 960 ° C ermöglicht. Dies trägt dazu bei, die Komplexität des Abscheidungsprozesses zu reduzieren und eine konsistente Folienschicht auf dem Substrat zu erhalten. P5000 Reaktor verfügt außerdem über eine ultrapräzise Wafer-Reaktionskammer und eine optionale lüfterunterstützte Kühlung, um die Effizienz und Produktqualität des Abscheidungsprozesses weiter zu verbessern. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 Reaktorsysteme sind typischerweise mit fortschrittlichen Automatisierungs- und Steuerungssystemen, mit Sicherheitsfunktionen zum Schutz von Personal und Ausrüstung und mit Offline-Überwachungssystemen ausgestattet, um die Einhaltung der Produktspezifikationen sicherzustellen. Darüber hinaus verfügen die Reaktoren über korrosionsbeständige Bauteile und Schutzschichten, die zur Reduzierung des Wartungsaufwands eingesetzt werden. Insgesamt bietet APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor eine zuverlässige, effiziente und kostengünstige Lösung für CVD-Prozesse zur Herstellung von elektronischen und Halbleitermaterialien. Es ist fortschrittliches Design, Präzisionsfähigkeiten und intelligente Steuerungssysteme machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für kommerzielle Produktion.
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