Gebraucht APPLIED MATERIALS P 5000 #163402 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
![APPLIED MATERIALS P 5000 Foto Verwendet APPLIED MATERIALS P 5000 Zum Verkauf](https://cdn.caeonline.com/images/AMAT1_P5000_163402_220089.png)
![Loading](/img/loader.gif)
Verkauft
ID: 163402
Wafergröße: 8"
PECVD system, 8"
Configuration: (4) CVD chambers
Process gases: Silane, Ammonia, Nitrous Oxide, Nitrogen Trifluoride
Precision 5000 Mark II Mainframe
Precision 5000 Software Version 5.03 (Year 2000 Compliant)
SECS Communication Port
Laminar flow mini-environment behind input/output window
Mark II ZA (zero adjust) actuators and gates for process chambers
Process chamber configured for ceramic chuck operation
15 slot storage elevator for faster run rates
eDOC remote system for combustion of un-reacted silane
Nitride thin film configured (no hotbox)
Heat exchanger
Remote frame with remote AC power box
(1) High frequency RF generator per chamber on remote frame
(4) BOC-Edwards iQDP40/iQMB250 pumps/blowers for dep chambers
BOC-Edwards iQDP80 pump for loadlock
Ergonomic Cassette Load/Unload
Excursion Prevention (EP) software ready
Currently crated.
ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist ein spezialisierter chemischer Aufdampfreaktor (CVD), der für die kommerzielle Herstellung von elektronischen und Halbleitermaterialien verwendet wird. Insbesondere wird APPLIED MATERIALS P5000 zur Herstellung von polykristallinem Silizium, Polysilizium TFT (Thin Film Transistor), Polysilizium Gate und Poly-SiON (Polysilizium Oxid Nitrid) Materialien verwendet. Dieses Mehrzwecksystem arbeitet, indem es chemische Vorläufer in einer Vakuumkammer zerlegt, um einen Film oder eine Materialschicht auf einem Substrat zu bilden. Dieses Abscheidungsverfahren ist als chemische Dampfabscheidung bekannt und erfordert hohe Temperaturen und eine präzise Druckregelung. P-5000 Reaktor bietet die hohe Kontrolle und Präzision, die für zuverlässige und effiziente Produktionsabläufe erforderlich sind. Sein fortschrittlicher Aufbau umfasst eine separate Abgabekammer, in der die Vorläufereinspeisungen, Reaktanden und Inertgase beladen werden, und eine Reaktionskammer, in der die Abscheidung stattfindet. P 5000 Reaktor verfügt auch über eine breite Palette von Prozessparametern wie Temperatur, Druck und Sauerstoffdurchfluss, die alle eingestellt werden können, um eine konsistente und gleichmäßige Filmabscheidung zu gewährleisten. Das Herzstück von APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ist seine Hochleistungsheizung, die einen Bereich von Prozesstemperaturen zwischen 400 ° C und 960 ° C ermöglicht. Dies trägt dazu bei, die Komplexität des Abscheidungsprozesses zu reduzieren und eine konsistente Folienschicht auf dem Substrat zu erhalten. P5000 Reaktor verfügt außerdem über eine ultrapräzise Wafer-Reaktionskammer und eine optionale lüfterunterstützte Kühlung, um die Effizienz und Produktqualität des Abscheidungsprozesses weiter zu verbessern. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 Reaktorsysteme sind typischerweise mit fortschrittlichen Automatisierungs- und Steuerungssystemen, mit Sicherheitsfunktionen zum Schutz von Personal und Ausrüstung und mit Offline-Überwachungssystemen ausgestattet, um die Einhaltung der Produktspezifikationen sicherzustellen. Darüber hinaus verfügen die Reaktoren über korrosionsbeständige Bauteile und Schutzschichten, die zur Reduzierung des Wartungsaufwands eingesetzt werden. Insgesamt bietet APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor eine zuverlässige, effiziente und kostengünstige Lösung für CVD-Prozesse zur Herstellung von elektronischen und Halbleitermaterialien. Es ist fortschrittliches Design, Präzisionsfähigkeiten und intelligente Steuerungssysteme machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für kommerzielle Produktion.
Es liegen noch keine Bewertungen vor