Gebraucht APPLIED MATERIALS P 5000 #163405 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 163405
Wafergröße: 8"
PECVD system, 8"
Configuration: (4) CVD chambers
Process gases: Silane, Ammonia, Nitrous Oxide, Nitrogen Trifluoride
Precision 5000 Mark II Mainframe
Precision 5000 Software Version 5.03 (Year 2000 Compliant)
SECS Communication Port
Laminar flow mini-environment behind input/output window
Mark II ZA (zero adjust) actuators and gates for process chambers
Process chamber configured for ceramic chuck operation
15 slot storage elevator for faster run rates
eDOC remote system for combustion of un-reacted silane
Nitride thin film configured (no hotbox)
Heat exchanger
Remote frame with remote AC power box
(1) High frequency RF generator per chamber on remote frame
(4) BOC-Edwards iQDP40/iQMB250 pumps/blowers for dep chambers
BOC-Edwards iQDP80 pump for loadlock
Ergonomic Cassette Load/Unload
Excursion Prevention (EP) software ready
Currently crated.
APPLIED MATERIALS P 5000 reactor ist eine hochmoderne Halbleiterherstellungsanlage, die zum Ätzen und Formen von Mustern auf Wafern verwendet wird. Diese Maschine verfügt über überlegene Photoresist-Fähigkeit, so dass der Ätzprozess unglaublich präzise und detailliert sein. ANWENDUNGSMATERIALIEN P5000 Reaktor hat eine Feldgröße von bis zu sechzehn Zoll, so dass größere Prozesse. Die zur Erzeugung des Musters verwendete Düse ist sehr klein und kann leicht geändert werden, was die Anwendung einer Vielzahl von Ätzmustern ermöglicht. P-5000 Reaktor verfügt über einen optimierten Ätzprozess mit minimalem chemischen Einsatz, der eine bessere Effizienz und höhere Einsparungen ermöglicht. Dieses System nutzt seine eingebauten Überwachungs- und Computersysteme, um die höchsten Ätzraten zu erreichen. ANWENDUNGSMATERIALIEN P-5000 Reaktor verfügt auch über einen patentierten G-Laser, einen ablativen Laser, der es ermöglicht, den Ätzprozess in einem Bruchteil der Zeit herkömmlicher Ätzsysteme abzuschließen. Dieser Laser ermöglicht auch mehr Details und Genauigkeit als andere Systeme. Neben seinen überlegenen Ätzfähigkeiten umfasst P5000 Reaktor auch eine hochpräzise Inspektionseinheit. Diese Maschine umfasst ein hochauflösendes Mikroskop sowie Sensoren, die die chemische Zusammensetzung des Wafers während des gesamten Ätzprozesses messen. Damit ist sichergestellt, dass alle Wafer vor dem Lösen vom Werkzeug den gewünschten Standard haben. Der P 5000 Reaktor ist so konzipiert, dass er in einer sehr sauberen Umgebung läuft, wobei seine versiegelte Kammer internationale Staubpartikel verhindert. Diese Kammer ist mit ultrareinem Stickstoff gefüllt, wodurch die Oxidation der Wafer reduziert wird. Dieses Asset verfügt auch über ein erweitertes Filtermodell, um während des Ätzvorgangs erzeugte Partikel zurückzugeben. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist die perfekte Wahl für jede Halbleiterherstellungslinie. Seine fortschrittlichen Ätz- und Inspektionsmöglichkeiten, gepaart mit einer Reinraumumgebung und Energieeffizienz, machen diese Ausrüstung zu einer ausgezeichneten Wahl für die Herstellung von Wafern von höchster Qualität.
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