Gebraucht APPLIED MATERIALS P 5000 #57339 zu verkaufen

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Hersteller
APPLIED MATERIALS
Modell
P 5000
ID: 57339
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1994
Core, 8" AMAT0, generator CVD Stored in cleanroom Can be inspected 1994 vintage.
ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist ein Hochleistungs-Ionenimplantator für die Halbleiterherstellung. Es wird verwendet, um Dotierstoffe auf Halbleiterscheiben abzuscheiden - ein grundlegender Prozess in der Halbleiterherstellung. Dieses Werkzeug ist in der Lage, Ionen unterschiedlicher Energie mit hoher Präzision und Genauigkeit in die Halbleiteroberfläche zu implantieren. APPLIED MATERIALS P5000 verfügt über eine breite Palette einstellbarer Parameter wie Dosimetrie, Strahlformung und Strahlenergie, die eine präzise Implantation von Dotierstoffprofilen ermöglichen. Es verfügt auch über ein integriertes Strahlüberwachungssystem, das eine hohe Produktqualität und Prozesssicherheit gewährleistet. P-5000 verwendet eine innovative Mikrowellen-Plasma-Ionen-Quelle, die es ermöglicht, mit sehr hohen Strömen zu arbeiten. Dadurch entstehen elektrisch geladene Atome (Ionen), die dann beschleunigt und in einen Strahl fokussiert werden. Der Strahl wird verwendet, um die Dotierungsionen unter einem genauen Winkel und einer genauen Tiefe in die Halbleiteroberfläche zu implantieren. APPLIED MATERIALS P-5000 verwendet außerdem ein hochmodernes Robotiksystem, um die genaue Positionierung von Wafern im Implantat zu erleichtern. Dadurch wird eine gleichmäßige Implantation über die gesamte Waferoberfläche gewährleistet. P5000 umfasst eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, wie Verriegelungen und Sicherheitsverriegelungen, um die Sicherheit des Bedieners zu gewährleisten. Es hat auch eine intuitive GUI, die es einfach macht, Implantatparameter zu konfigurieren, zu überwachen und anzupassen. P 5000 ist ideal für die Serienproduktion von Halbleiterbauelementen und seine fortschrittlichen Funktionen helfen, hohe Ausbeute und ausgezeichnete Produktqualität zu gewährleisten. Es ist auch robust genug, um langfristigen Einsatz zu handhaben und seine hohe Genauigkeit trägt zu einer Verkürzung der Zykluszeit des Implantatprozesses bei.
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