Gebraucht APPLIED MICROSTRUCTURES MVD 100 #293647151 zu verkaufen
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ID: 293647151
Weinlese: 2014
Molecular Vapor Deposition (MVD) system
Vacuum:
Pumping speed: ≥100 m³/h
Base pressure: ≤10 mTorr
Storage:
Humidity: 25 to 85% (Non - condensing)
Temperature: 5 to 70°C (41 to 158°F)
Exhust flow:
System exhaust: 200 CFM
Gas panel louvers: 200 CFM
Power supply:
Voltage: 208 VAC, ±10%, 3Φ, 5 Wire-Y (Ground + netural)
Current: 60 Amps
Full load:
58 Amps (Maximum)
46 Amps (Nominal)
CB1 Interrupter current: 10 K at 240 V
K1 Impuls withstand voltage: 8 kV
2014 vintage.
ANGEWANDTE MIKROSTRUKTUREN MVD 100 ist ein kompakter, ultrahochvakuum- (UHV) Mikrowellen-Plasma-basierter Dünnschichtreaktor, der eine Vielzahl von industriellen Dünnschichtherstellungsprozessen unterstützt. Seine Aufgabe ist es, eine kostengünstige und zuverlässige Plattform für die Abscheidung von dünnen Schichten in einer Vielzahl von Zusammensetzungen und Dicken zu schaffen. Dieser Reaktor ist mit einem Zweifrequenzgerät ausgestattet, das entweder in 2,45 oder 5,8 GHz Frequenzbändern arbeitet, wodurch der Bediener je nach gewünschtem Filmmaterial zwischen Abscheidungen wechseln kann. Die Edelstahlkonstruktion in Verbindung mit einer robusten Aluminiumkammer macht es zu einem robusten System, das langfristigen Wartungszyklen auf Produktionsebene standhält. MVD 100 verwendet eine innovative, energiereiche Trockenvakuumeinheit, um extrem kleine Restpartikel einzufangen und eine filmfreie Vakuumumgebung zu gewährleisten, bevor die Abscheidung beginnt. Diese Maschine verwendet eine Kombination aus direkt angetriebenen Turbopumpen, chemischen Pumpen und ölfreien Druckluftpumpen, um einen Basisdruck von 10-8 Torr zu erreichen, mit der Möglichkeit, 6 x 10-9 Torr zu erreichen. Das innovative Plasmaabgabewerkzeug von APPLIED MICROSTRUCTURES MVD 100 wurde entwickelt, um eine maximale Plasmagleichförmigkeit und minimale Kontamination der Substratmaterialien zu gewährleisten. Es ist in der Lage, eine Plasma-Umgebung mit einer Reihe von Dichten und Plasma-Spezies zu schaffen. Der Vermögenswert kann für spezifische Anforderungen reaktiver oder nicht reaktiver Prozesse angepasst werden. Die Konstruktion von MVD 100 stellt zudem eine kostengünstige Lösung für die vorbeugende Wartung sicher. Der modulare Aufbau ermöglicht einen schnellen und einfachen Zugang zu allen Komponenten, einschließlich der Stromversorgung, Plasmasteuerung, Verpackung und Transport sowie anderen externen Anschlüssen. Zu den eingebauten Sicherheitsmerkmalen gehört zudem ein Sicherheitsverriegelungsmodell, das bei unerwarteten Druckschwankungen das Plasma sofort herunterfährt. AUFGEBRACHTE MIKROSTRUKTUREN MVD 100 ist ein wesentliches Werkzeug für die Herstellung von dünnen Schichten, wie sie in der Mikroelektronik, der optischen Beschichtung und der Flachbildschirmtechnologie verwendet werden. Seine Leistungsfähigkeit und Kostenvorteile machen es zu einem praktikablen Kandidaten für viele industrielle Dünnschichtherstellungsprozesse.
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