Gebraucht ASM / ACCU-FAB Epitaxy / 1250 #156237 zu verkaufen
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ID: 156237
EPI reactor
Includes:
ACCU-FAB 1250 max servo motion controller system:
Power: 115 VAC +/- 10%, 50/60 Hz, Single Phase, 1500 VA Max
EPI reactor loader
Built to interface EPI reactor with a Smith interface
(1) 8" cassette (up to 26 wafers)
ACCU-FAB 1250 servo controller:
19" rack mountable chassis
AT bus
Two RS-232 ports
64k non-volatile CMOS memory
(10) Relay outputs
(12) Optically isolated inputs
5.25 or optional 3.5 floppy disk drive, hard disk, and 1 MB RAM
Built-in CRT and keyboard
ACCU-FAB Accubot:
Compact, clean-room compatible
Four-axis SCARA style robot
Four independent joints, cassettes can be located side-by-side vs radially
Range of Motion:
Standard Axis 1 (Z): 9.25 Inches
Custom Axis 1 (Z): 9.3 to 30.0 Inches available
Axis 2: +/- 157
Axis 3: +/- 179
Axis 4: +/- 169
R1 (centerline A1 to centerline A2 = 15.0 inches to tool flange): 7.5 Inches
R2 (centerline A2 to centerline A3): 7.5 Inches
Repeatability: +/- .002 Inch
Weight: 86 Pounds (Does not include the entire item or Shipping I believe)
Maximum Speed:
Axis 1: 10 in. /sec.
Axis 2: 180 / sec.
Axis 3: 180 / sec.
Axis 4: 180 / sec.
Accelerations: 32 inch / sec^2, 540 / sec^2
Payload:
At maximum speed: 3 lbs.
At reduced speed: 6 lbs.
Allowable end effector moment of interia: .02 inch-pounds-sec^2.
ASM/ACCU-FAB Epitaxy/1250 ist ein Stück Prozessausrüstung für Epitaxie, die eine Technik zum Wachsen von Schichten aus verschiedenen Materialien auf einer einzigen Substratoberfläche ist. Insbesondere ist ASM 1250 ein horizontaler Ofen für die Herstellung von Epitaxielagen auf Halbleitern (Si, GaAs, InP) und optischen Substraten für ein breites Anwendungsspektrum. Der 1250 ist ein Mehrzonenofen, bestehend aus einem einsetzbaren Waferkanu, Oxidationsmittel, Ladeschloss, Heizgerät und einem Trägergas in einem Quarzrohr. Der Ofen kann bis zu 12 „Wafer verarbeiten und ist mit einem Quarzrohrdurchmesser von 4“ und einer Rohrlänge von 30,5 cm ausgestattet. Dies ermöglicht der 1250 eine höhere Temperaturgleichmäßigkeit über die gesamte Substratoberfläche und unterstützt eine höhere Prozessgenauigkeit. Es ermöglicht dem Epitaxiesubstrat auch, einen kontinuierlichen Gasstrom über einen festen Temperaturgradienten aufzunehmen. Die 1250 verfügt über ein Mehrzonen-Steuerungssystem, das eine präzise Temperaturregelung in entscheidenden Bereichen ermöglicht. Dies hilft, die Epitaxie Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Prozessparameter zu verbessern. Darüber hinaus ist die 1250 mit Zusatzkomponenten wie Durchflussreglern, Druckanzeigern, Rotametern, Massenstromreglern und Blasenreglern ausgestattet. Diese Komponenten ermöglichen eine präzise und gleichmäßige Dosierung von Gasen und Trägerströmen in den Epitaxieprozess. Die 1250 enthält auch eine Servo-Steuerungsplattform und eingebetteten Mikroprozessor, um die Fernüberwachung des Epitaxieprozesses zu erleichtern. Dies gewährleistet einen sicheren, genauen und wiederholbaren Betrieb des Prozesses. Insgesamt ist der ASM Epitaxy/1250 Reaktor eine hochmoderne Verfahrensanlage zur Herstellung von Epitaxieschichten auf Halbleiter- und optischen Substraten. Es ist eine ideale Wahl für Hersteller von hochwertigen und zuverlässigen Halbleiterbauelementen. Mit seiner präzisen Temperaturregelung, niedrigen Wartungskosten und bequemen Fernüberwachung können die 1250 die Epitaxie-Anforderungen für eine breite Palette von Anwendungen liefern.
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