Gebraucht ASM Epitaxy #166041 zu verkaufen

ASM Epitaxie-Reaktoren bieten eine effiziente, sichere und präzise epitaktische Abscheidung von Halbleitermaterialien. Epitaktische Abscheidung ist der Prozess der Abscheidung von ultradünnen Schichten aus Halbleitermaterial auf einem Substrat, um die Leistung von Halbleiterbauelementen zu erweitern und zu verbessern. Epitaxiereaktor ist ein effizientes Reaktorsystem, das die physikalische Dampfabscheidungstechnik verwendet, die ein Quellenmaterial zur Abscheidung durch Verdampfen, Sputtern und Ionenbeschuss zum Substrat leitet. Der Reaktor besteht aus mehreren Komponenten, darunter einer Quellenmaterialkammer, einer Vakuumkammer und einer Substratstufe. Die Quellmaterialkammer besteht aus einer Vakuumkammer, in der das Quellmaterial erwärmt und verdampft wird. Die Substratstufe wird typischerweise gekühlt, um ein gleichmäßiges und schnelles Wachstum des Substrats zu fördern. Die Oberfläche des Substrats wird dann dem verdampften Ausgangsmaterial ausgesetzt, und das Material koaliert auf der Oberfläche des Substratmaterials zu den epitaktischen Schichten. Der Reaktor bietet dank seiner Gleichmäßigkeit in Dicke, Abdeckung und epitaktischer Schichtqualität ein effizientes Verfahren zur epitaktischen Abscheidung. Die auf dem Substrat erhaltenen Schichten haben in der Regel eine gleichmäßige Dicke sowie eine gleichmäßige Abdeckung über das Substrat. Zusätzlich wird aufgrund der niedrigeren Wachstumstemperatur eine Kristallvervollkommnung und/oder strukturelle Perfektion des verdampften Materials beibehalten. ASM Epitaxie bietet auch eine Gleichmäßigkeit in Wachstumsrate und Abscheidungsrate, die hilft, die Kristallvervollkommnung des verdampften Materials, sowie die gleichmäßige Abdeckung und Dicke der Schichten zu erhalten. Die gleichmäßige Abdeckung und Schichtdicke ermöglichen effiziente Ausbeute, da weniger Fehlerchancen bestehen. Der Reaktor ist aufgrund seiner Benutzerfreundlichkeit hocheffizient. Das Ausgangsmaterial kann leicht ausgetauscht werden, und der Benutzer kann die Abscheidegeschwindigkeit nach Bedarf steuern. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über leicht verständliche Benutzeroberflächen, die es neuen Benutzern erleichtern, die Betriebsparameter des Abscheidungsprozesses zu verstehen. Abschließend bietet Epitaxie eine sichere und präzise Methode zur epitaktischen Abscheidung. Es vereinfacht den Abscheidungsprozess und sorgt gleichzeitig für eine gleichmäßige Abdeckung, Schichtdicke und Kristallvervollkommnung des verdampften Materials. Infolgedessen ist der Wirkungsgrad des Reaktors aufgrund seiner zuverlässigen und konsistenten Ergebnisse für Halbleiterbauelementdesigner und Hersteller von Vorteil.