Gebraucht AVIZA / OMEGA 201 #9396141 zu verkaufen

AVIZA / OMEGA 201
Hersteller
AVIZA / OMEGA
Modell
201
ID: 9396141
Deposition system.
AVIZA/OMEGA 201 ist ein Reaktor, der von der Zircon Corporation als Werkzeug für Halbleiterherstellung und Chemie entwickelt wurde. Dieser Reaktor verwendet bis zu drei Plasmaprozesse, um seine gewünschten Ergebnisse zu erzielen: Niederdruck-chemische Dampfabscheidung (LPCVD), chemisches Plasmaätzen (CPE) und chemische Dampfabscheidung (CVD). Der Reaktor ist eine zylindrische Vorrichtung, die etwa sieben Fuß groß und zwei Fuß breit ist und in einer Vakuumkammer aus Edelstahl eingeschlossen ist. AVIZA 201 arbeitet als Atmosphärendruck-Plasmakammer, insbesondere im induktionsgekoppelten Elektronenzyklus. Von außen hat dieser Reaktor zwei verschiedene Anschlüsse für interne Prozesse: einen für Prozessgaseinlass und einen für eine Vakuumpumpe. Die Einbauten des Reaktors bestehen aus einer Stromversorgung, einer Vakuumversorgung, Kammerwänden und Elektroden zur Erleichterung des Elektronenzyklus. Jede dieser Komponenten arbeitet synergistisch, um das gewünschte Ergebnis zu schaffen. Das in OMEGA 201 verwendete Netzteil ist ein mittelfrequenter, spannungsgesteuerter Generator, der bis zu 1000 Watt Leistung liefern kann. Mit dieser Leistung wird die Plasmaumgebung in der Reaktorkammer erzeugt. Die Vakuumzufuhr pumpt die Kammer auf einen Druck von 20 Milibar oder weniger herunter, wodurch eine stabile atmosphärische Umgebung für die Prozesse geschaffen wird. Die Kammerwände und Elektroden sind aus Metall gefertigt und mit wärme- und chemikalienbeständigem Material beschichtet. Die Elektroden dienen zur Erzeugung des Elektronenzyklus, wobei eine elektrische Energie auf die Elektroden übertragen wird und durch Anregung des Prozessgases in einen energiereichen Zustand ein Plasma erzeugt. Mit diesem Plasma wird die gewünschte Reaktion innerhalb der Reaktorkammer entweder durch CVD-, CPE- oder LPCVD-Verfahren erzeugt. 201 ist entworfen, um extemporane und genaue Ergebnisse für Halbleiterherstellung und Chemie zu liefern. Die präzise Stromversorgung und bis zu drei Plasmabearbeitungsstufen schaffen eine optimale Umgebung für chemische Reaktionen, die auf maximale Ausbeute optimiert wurden. Dieser Reaktor wurde erfolgreich zur Herstellung von Halbleitern und Hightech-Produkten eingesetzt.
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