Gebraucht CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 #293651884 zu verkaufen
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ID: 293651884
Weinlese: 2010
Atomic Layer Deposition (ALD) system
Substrate, 8"
ADIXEN ATH-400M Pump
Aluminum oxide
Manual load lock
Chamber
(6) Heater precursor lines
Gases: N2, Ar, O2, H2, NH3
Plasma enhanced ALD
Thermal ALD with temperature: Up to 300°C
No heater jacket
No APC
Optimize:
ALD Reactor
Heater
Trap geometry
2010 vintage.
CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 ist ein leistungsstarker, digital-fähiger, industrieller Atmosphärendruck-Plasmareaktor. Es ist ideal für präzise Dünnfilmabscheidung, Oberflächenaktivierung, Oberflächenbehandlung und Nachbehandlung. Dank seiner Fähigkeit, die Oberfläche jedes Substrats - Metalle, Halbleiter, Nanopartikel und Dielektrika - mit einer Vielzahl von Oberflächenchemien und -strukturen chemisch zu modifizieren, ermöglicht es die Herstellung funktioneller (Hybrid-) Strukturen und Materialien mit auf spezifische Anwendungen zugeschnittenen Eigenschaften. CAMBRIDGE NANOTECH FIJI F 200 basiert auf dem Prinzip der Heißkathode, direktresonanter Induktorplasmaquelle und unter Verwendung von dielektrischer Barriereentladung. Es besteht aus einer Mehrzonenkammer mit präzise konstruierten, temperaturgesteuerten Widerstandsheizelementen, um die kontrollierte Abscheidung einer Vielzahl von dünnen Schichten auf jeder Art von Substraten zu ermöglichen. Die Kammer ist mit einer offenen Öffnung zur Aufnahme des Be- und Entladens der Proben versehen. Fiji F200 kommt mit intuitiver und benutzerfreundlicher Multi-Mode-Steuerungssoftware, die Fernbedienung und Parameterauswahl sowie die Erstellung von benutzerdefinierten Steuerungsprofilen für bestimmte Anwendungen ermöglicht. Es ist mit einer Vielzahl von Prozessgasen kompatibel und kann mit Argon, Stickstoff, Sauerstoff, Kohlendioxid, Wasserstoff, Neon oder Ammoniak betrieben werden. Die Plasmaquelle ist sehr stabil und kann auf komplexe Kombination von Gasdurchflussraten eingestellt werden. FIJI F 200 ist für die hochproduktive Webverarbeitung und ein breites Anwendungsspektrum in der Mikro- und Nanofabrikation konzipiert. Es hat einen hohen Durchsatz und verfügt über einen schnellen Prozessstart/-stopp, der eine kontinuierliche Produktion und eine effektive Kostenkontrolle ermöglicht. Es ist hocheffizient mit geringem Energieverbrauch, außergewöhnlicher Prozesswiederholbarkeit und hochpräziser Plasmakontrolle. Abschließend ist CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 ein innovativer und leistungsstarker Plasmareaktor, der modernste digitale Steuerungen mit präziser Plasmatechnik kombiniert und eine unübertroffene Oberflächenbehandlungslösung liefert. Es ist in der Lage, dünne Filme auf jeder Art von Substrat genau abzuscheiden und kann in einer Vielzahl von Anwendungen wie dünne Filme oder Dielektrika, Oberflächenaktivierungsbehandlungen und Nachbehandlungen verwendet werden.
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