Gebraucht CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 #9179531 zu verkaufen

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ID: 9179531
Weinlese: 2010
Atomic layer deposition system Substrate, 8" Aluminum oxide Manual load lock Dual chamber (6) Heater precursor lines (5) Plasma gas lines Plasma enhanced ALD With (3) gases: O2, Ar, N2 Thermal ALD with temperature: Up to 300°C Turbo pump with APC Chemicals: TMA, Zr, Ti Optimize: ALD Reactor Heater Trap geometry 2010 vintage.
CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 ist ein CVD-Reaktor, der sowohl für die Forschung als auch für die industrielle Herstellung von Dünnschichten verwendet wird. Es ist für eine Vielzahl von Anwendungen konzipiert, darunter: Solarzellenproduktion, Optoelektronik, Halbleiter, MEMS/NEMS und Displays. CAMBRIDGE NANOTECH FIJI F 200 ist eine hochpräzise CVD-Ausrüstung der nächsten Generation, die periodisch dünne Filme bis zu einer Dicke von 0,5 µm ablegen kann. Es ist für die experimentelle Abscheidung von Metallen, Halbmetallen und Metalloxiden ausgelegt. Das System verfügt über zwei integrierte Prozessmodule: Abscheidung und Mobilität. Entwickelt, um zuverlässig und benutzerfreundlich zu sein, hat Fidschi- F200 eine niedrige Partikelerzeugungsrate, einen niedrigen Gegendruckbetrieb, eine niedrige Filmspannung und eine gleichmäßige Rückseitenkühlung für eine verbesserte Gleichmäßigkeit im Batch-Modus. FIJI F 200 ist ein Einzelwaferreaktor und in zwei Modellkonfigurationen erhältlich: CL-V und PD-V. Beide Modelle verfügen über eine intuitive, grafische Benutzeroberfläche und ein integriertes Videomikroskop. Die CL-V-Konfiguration umfasst einen integrierten Hubarm, der ein einfaches Be- und Entladen von Proben/Substraten ohne Verschmutzung ermöglicht. Die PD-V-Version verfügt über eine eingebaute „Selbststufe“ mit einem unabhängigen Substrathalter, mit dem die Einheit zum manuellen Be- und Entladen geöffnet werden kann. CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 verfügt über eine Vielzahl von Optionen, darunter Automatisierung, die OneView Gasüberwachungsmaschine, eine ringförmige Kochplatte für mehr Gleichmäßigkeitskontrolle und ein rückseitiges Kühlmodul. Um den Anforderungen einer Vielzahl von Prozessen gerecht zu werden, ist dieser Reaktor mit einer Vielzahl von Prozessquellen und Trägergasen ausgestattet. Zur präziseren Abscheidungssteuerung enthält das Werkzeug eine lebendige Quarzauswahlkammer, die hilft, die Probe aus dem Abgas der Reaktoren zu isolieren und eine saubere, reaktionsfreundliche Umgebung zu schaffen. CAMBRIDGE NANOTECH FIJI F 200 ist ein zuverlässiger, benutzerfreundlicher CVD-Reaktor, der für eine Vielzahl von Dünnschichtanwendungen mit präziser Abscheidungssteuerung eingesetzt werden kann. Dieser Reaktor ist eine kostengünstige Lösung sowohl für die Forschung als auch für die industrielle Herstellung von Dünnschichtprodukten.
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